[发明专利]含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体及制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种含有氮化硼涂层的真空镀膜设备及制备方法。

背景技术

在真空镀膜领域，传统的真空镀膜设备，用于安置靶材的腔体内，一般无任何附加的涂覆物。在实际的真空镀膜设备使用过程中，靶材所置腔体内都会因生产过程中产生的靶材落尘积聚而覆盖上一层或厚或薄的残留物。该层残留物对真空镀膜设备的使用造成一定的影响，更为严重的甚至影响到镀膜设备生产产品的成品率。因此在真空镀膜设备保养过程中，需要通过某些方式，例如喷砂作业等操作工艺对所述残留物进行处理。在真空镀膜领域，特别是玻璃真空镀膜领域，大部分靶材在真空溅射过程中会产生落尘，而所述落尘在镀膜设备腔体内积聚而成的残留物往往很难去除，因此真空镀膜设备，特别是设备腔室在保养过程中一般都需要耗费大量的时间和精力，而且在去除该层残留物时也可能对设备腔室造成一定的损坏，更为严重的可能影响到设备的使用。

寻求一种可简单操作的工艺，来尽力解决上述真空镀膜设备保养过程中的问题已成为本领域的技术人员亟待解决的技术问题之一。

发明内容

本发明的目的是提供一种含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体及制备方法，以克服现有技术存在的缺陷，以满足人们的需要。

本发明首先涉及一种含有氮化硼涂料，所述的含有氮化硼涂料，包括如下重量份数的组分：

乙醇                     100份

氮化硼粉末               15~30份

辅料                     0~10份

粘结剂                   0~10份

优选的，所述的含有氮化硼涂料，包括如下重量份数的组分：

乙醇                     100份

氮化硼粉末               17~20份

辅料                     0~5份

粘结剂                   3~4份

所述的氮化硼粉末的粒径为1~15微米；

所述的辅料选自聚丙烯酸、聚丙烯酸钠、聚氧化乙烯、聚丙烯酰胺、油酸聚氧乙烯酯、脂肪醇聚氧乙烯醚甲基硅烷、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠、纤维素硫酸纳、烷基二苯醚磺酸纳、烷基酚聚氧乙烯醚磷酸脂盐、甲基纤维素、焦磷酸钾、六偏磷酸纳中的一种以上，优选聚丙烯酸；

所述的粘结剂选自干酪素、瓜尔豆胶、聚乙烯醇或羧甲基纤维素中的一种以上，优选聚乙烯醇；

所述的辅料的作用是提高涂层的粘度，所述的粘结剂的作用是增加涂层与真空镀膜设备的黏附力；

本发明还涉及一种含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体，所述的含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体，为表面涂覆了所述的含有氮化硼涂料并干燥后的靶材腔体，其中：各个组分的重量份数为：

氮化硼粉末               15~30份

辅料                     0~10份

粘结剂                   0~10份

优选的，各个组分的重量份数为：

氮化硼粉末               17~20份

辅料                     0~5份

粘结剂                   3~4份

所述的含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体，包括遮蔽底板、设置在遮蔽底板两边的L型遮蔽挡板和设置在L型遮蔽挡板上的定位螺母；

所述的含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体的制备方法，包括如下步骤：

    （1）在乙醇中加入氮化硼粉末搅拌分散；

    （2）加入辅料搅拌至粘稠状；

（3）加入重量浓度为1%～25%的粘结剂水溶液，搅拌均匀，获得所述的含有氮化硼涂料；

（4）将所述的含有氮化硼涂料涂覆于所述的真空镀膜设备的靶材腔体，包括一切可拆卸的部件，如L型遮蔽挡板、遮蔽底板和L板定位螺母等，干燥，优选自然风干，即可获得所述的含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体；

本发明的有益效果是：在真空镀膜设备的靶材所置腔体内，L型遮蔽挡板、遮蔽底板、L板定位螺母等部件上形成一层光滑且具有吸附靶材落尘功能的涂层，该涂层不会对靶材造成任何不利影响，不会对设备所生产的产品造成任何不利影响，且所述涂层在真空镀膜设备保养时可以快速清洁并重复使用，从而不仅可以提高真空镀膜设备所生产产品的成品率，同时也提高设备保养时的工作效率。