[发明专利]含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体及制备方法

权利要求书

1.含有氮化硼涂料，其特征在于，包括如下重量份数的组分：

乙醇                     100份

氮化硼粉末               15~30份

辅料                     0~10份

粘结剂                   0~10份。

2.根据权利要求1所述的含有氮化硼涂料，其特征在于，包括如下重量份数的组分：

乙醇                     100份

氮化硼粉末               17~20份

辅料                     0~5份

粘结剂                   3~4份。

3.根据权利要求1所述的含有氮化硼涂料，其特征在于，所述的氮化硼粉末的粒径为1~15微米。

4.根据权利要求1~3任一项所述的含有氮化硼涂料，其特征在于，所述的辅料选自聚丙烯酸、聚丙烯酸钠、聚氧化乙烯、聚丙烯酰胺、油酸聚氧乙烯酯、脂肪醇聚氧乙烯醚甲基硅烷、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠、纤维素硫酸纳、烷基二苯醚磺酸纳、烷基酚聚氧乙烯醚磷酸脂盐、甲基纤维素、焦磷酸钾、六偏磷酸纳中的一种以上。

5.根据权利要求1~3任一项所述的含有氮化硼涂料，其特征在于，所述的粘结剂选自干酪素、瓜尔豆胶、聚乙烯醇或羧甲基纤维素中的一种以上。

6.一种含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体，其特征在于，所述的含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体，为表面涂覆了权利要求1~5任一项所述的含有氮化硼涂料并干燥后的靶材腔体。

7.根据权利要求6所述的含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体，其特征在于，各个组分的重量份数为：

氮化硼粉末               15~30份

辅料                     0~10份

粘结剂                   0~10份。

8.根据权利要求6所述的含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体，其特征在于，各个组分的重量份数为：

氮化硼粉末               17~20份

辅料                     0~5份

粘结剂                   3~4份。

9.根据权利要求6~8任一项所述的含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体，其特征在于，包括遮蔽底板、设置在遮蔽底板两边的L型遮蔽挡板和设置在L型遮蔽挡板上的定位螺母。

10.根据权利要求6~9任一项所述的含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

    （1）在乙醇中加入氮化硼粉末搅拌分散；

    （2）加入辅料搅拌至粘稠状；

（3）加入重量浓度为1%～25%的粘结剂水溶液，搅拌均匀，获得所述的含有氮化硼涂料；

（4）将所述的含有氮化硼涂料涂覆于所述的真空镀膜设备的靶材腔体，干燥，即可获得所述的含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体。