[发明专利]磁记录介质及其制造方法和成膜装置有效
| 申请号： | 201510129953.2 | 申请日： | 2015-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN104952464B | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 相泽隆嗣;阿部淳博 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B5/73 | 分类号： | G11B5/73;G11B5/851;C23C14/34;C23C14/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 王玉双;谢雪闽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种磁记录介质及其制造方法和成膜装置。所述磁记录介质包括弹性基材和层叠膜，其中在所述基材的纵长方向上的整个300m区段内，磁特性的变化在±10％以内。 | ||
| 搜索关键词： | 磁记录介质 成膜装置 弹性基材 层叠膜 磁特性 基材 纵长 制造 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，包括：弹性基材；和层叠膜，其中所述层叠膜包括下涂层和垂直记录层，并且所述下涂层包括Ti和Cr，其中，在所述基材的纵长方向上的整个300m区段内，磁特性的变化在±10％以内，其中所述磁特性是保持力Hc、矩形比Rs和取向性强度△θ50。
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