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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]结构体、装饰膜、制造结构体的方法、和制造装饰膜的方法-CN201880034204.3有效
发明人：下田和人;阿部淳博;福岛义仁 -专利权人：索尼公司
申请日： 2018-04-26 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： B32B15/04 文献下载
摘要：根据本技术的实施方式的结构体包括：装饰部和构件。该装饰部包括具有第一表面的金属层、位于第一表面的相对侧的第二表面、第一内部区域、第二内部区域和微细裂纹、第二表面具有比第一表面高的反射率、第一内部区域在第一表面侧具有相对较高的硬度，第二内部区域在第二表面侧具有相对较低的硬度。该构件包括一个待装饰区域，装饰部与该待装饰区域粘合。
结构装饰制造方法

[发明专利]结构体、电子设备、装饰膜以及结构体的制造方法-CN201780022029.1有效
发明人：下田和人;阿部淳博 -专利权人：索尼公司
申请日： 2017-04-05 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： B32B15/08 文献下载
摘要：本技术提供了用于电子设备的结构体、电子设备、装饰膜以及制造用于电子设备的结构体的制造方法。本技术的一个实施方式的用于电子设备的结构体包括装饰膜和壳体部。所述装饰膜包含金属层，所述金属层包括其中预定元素的添加浓度相对高的第一区域、其中所述添加浓度与所述第一区域的添加浓度相比相对低的第二区域、以及使用所述第一区域作为基准形成的微细裂缝。所述壳体部包括被装饰区域，装饰膜被粘合到被装饰区域。
结构电子设备装饰以及制造方法

[发明专利]壳体部件、电子设备以及壳体部件的制造方法-CN201580074634.4有效
发明人： 阿部淳博;小林富士雄 -专利权人：索尼公司
申请日： 2015-10-29 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： H05K5/02 文献下载
摘要：根据本技术的一个实施方式的壳体部件包括装饰膜和壳体部。所述装饰膜包括金属层，所述金属层通过气相沉积形成在基础膜上，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹。所述壳体部包括被装饰区域，所述装饰膜被粘合至所述被装饰区域。
壳体部件电子设备以及制造方法

[发明专利]壳体组件、电子设备和壳体组件制作方法-CN201580043537.9有效
发明人： 阿部淳博;小林富士雄 -专利权人：索尼公司
申请日： 2015-05-26 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： H05K5/02 文献下载
摘要：根据本技术的实施例的一种壳体组件包括待装饰区域和装饰部分。所述待装饰区域包括将被装饰的多个待装饰表面，所述多个待装饰表面被形成为，使得相邻的所述待装饰表面具有不同高度。所述装饰部分包括形成在所述多个待装饰表面中的每个中的金属层。
壳体组件电子设备制作方法

[发明专利]结构体、装饰膜、制造结构体的方法、和制造装饰膜的方法-CN201880020230.0在审
发明人：福岛義仁;阿部淳博;下田和人 -专利权人：索尼公司
申请日： 2018-03-14 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： B32B15/08 文献下载
摘要：为了实现上述目的，根据本技术的实施方式，提供一种结构体，其包括装饰部和构件。所述装饰部包括单层金属层，所述单层金属层包括微细裂纹，并且预定元素的添加浓度在金属层的厚度方向上不同。所述构件包括装饰区域，所述装饰部粘合至所述装饰区域。
装饰部单层金属层装饰区域微细裂纹结构体金属层粘合

[发明专利]磁记录介质及其制造方法和成膜装置-CN201510129953.2有效
发明人：相泽隆嗣;阿部淳博 -专利权人：索尼公司
申请日： 2015-03-24 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： G11B5/73 文献下载
摘要：本发明提供了一种磁记录介质及其制造方法和成膜装置。所述磁记录介质包括弹性基材和层叠膜，其中在所述基材的纵长方向上的整个300m区段内，磁特性的变化在±10％以内。
磁记录介质成膜装置弹性基材层叠膜磁特性基材纵长制造

[发明专利]磁场生成设备和溅射设备-CN201410319170.6有效
发明人：佐佐木纯;阿部淳博;平塚亮一 -专利权人：索尼公司
申请日： 2014-07-04 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种能够轻易地调节磁场分布的磁场生成设备和使用所述磁场生成设备的溅射设备，所述磁场生成设备包括：两个以上主磁极部，其用于生成主磁场；一个以上副磁极部，其包括通过分割得到的多个第一分割磁体，并且生成用于对生成的主磁场进行调节的副磁场；以及轭部，其包括对应于所述一个以上副磁极部而与所述多个第一分割磁体相对的一个以上第一轭。
磁场生成设备溅射

[发明专利]气相沉积设备和气相沉积方法-CN201010194165.9无效
发明人： 阿部淳博 -专利权人：索尼公司
申请日： 2010-05-28 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种气相沉积设备，包括：真空罐；排气部，进行真空罐中的抽真空；气相沉积源，设置在真空罐中，以气化沉积材料；以及行进路径，允许其上沉积该沉积材料的狭长基板至少在相对于该气相沉积源的区域中相对于该气相沉积源沿着凹形路径行进。
沉积设备和气方法

[发明专利]蒸发设备、使用其制造阳极的方法、及使用其制造电池的方法-CN200810213081.8有效
发明人：小西池勇;翁千里;田边庆祐;阿部淳博;西山英俊;川濑贤一;仓泽俊佑;松元浩一 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2008-08-28 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：提供一种能够稳定地形成良好质量薄膜且高度适于批量生产的蒸发设备。蒸发设备包括：蒸发源，通过加热释放蒸发材料；保持部件，保持蒸发对象；及热屏蔽部件，它布置在蒸发源与保持部件保持的蒸发对象之间，具有开口以用于汽相状态下的蒸发材料从蒸发源通过到达蒸发对象，及屏蔽蒸发对象以免受蒸发源的部分辐射热量。热屏蔽部件被布置得距离蒸发源比距离保持部件更近。
蒸发设备使用制造阳极方法电池

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