[发明专利]半导体装置及半导体装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201480019763.9 申请日: 2014-05-09
公开(公告)号: CN105103279B 公开(公告)日: 2018-03-23
发明(设计)人: 木户和优;齐藤隆;福田恭平;多田慎司;百濑文彦;西村芳孝 申请(专利权)人: 富士电机株式会社
主分类号: H01L21/52 分类号: H01L21/52;B23K1/00;B23K35/26;B23K101/40;C22C13/02
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 代理人: 王颖,金玉兰
地址: 日本神奈*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 焊料接合层具有分散于基质的微粒状的多个第二结晶部(22)在第一结晶部(21)之间的晶粒边界析出的结构。第一结晶部(21)是以预定比例包括锡和锑的多个Sn晶粒。第二结晶部(22)由以相对于Sn原子以预定比例包括Ag原子的第一部分、或者相对于Sn原子以预定比例包括Cu原子的第二部分构成,或者由该第一部分和第二部分构成。另外,焊料接合层也可以具有作为相对于Sn原子以预定比例包括Sb原子的晶粒的第三结晶部(23)。由此,能够以低融点进行焊料接合、具有实质上均匀的金属组织、形成可靠性高的焊料接合层。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,是通过焊料接合层使一组构件之间接合而成的半导体装置,所述焊料接合层包括:第一结晶部,以锡原子:锑原子=1:p(0<p≤0.1)的比率包括锡和锑;以及第二结晶部,具有第一部分和第二部分中的至少一者,所述第一部分以锡原子:银原子=1:q(2≤q≤5)的比率包括锡和银,所述第二部分以锡原子:铜原子=1:r(0.4≤r≤4)的比率包括锡和铜,所述第二结晶部的平均粒径小于所述第一结晶部的平均粒径,所述焊料接合层具有第三结晶部,所述第三结晶部以锡原子:锑原子=1:s(0.8≤s≤1.6)的比率包括锡和锑。
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