[发明专利]半导体装置及半导体装置的制造方法有效
申请号: | 201480019763.9 | 申请日: | 2014-05-09 |
公开(公告)号: | CN105103279B | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | 木户和优;齐藤隆;福田恭平;多田慎司;百濑文彦;西村芳孝 | 申请(专利权)人: | 富士电机株式会社 |
主分类号: | H01L21/52 | 分类号: | H01L21/52;B23K1/00;B23K35/26;B23K101/40;C22C13/02 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 王颖,金玉兰 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 焊料接合层具有分散于基质的微粒状的多个第二结晶部(22)在第一结晶部(21)之间的晶粒边界析出的结构。第一结晶部(21)是以预定比例包括锡和锑的多个Sn晶粒。第二结晶部(22)由以相对于Sn原子以预定比例包括Ag原子的第一部分、或者相对于Sn原子以预定比例包括Cu原子的第二部分构成,或者由该第一部分和第二部分构成。另外,焊料接合层也可以具有作为相对于Sn原子以预定比例包括Sb原子的晶粒的第三结晶部(23)。由此,能够以低融点进行焊料接合、具有实质上均匀的金属组织、形成可靠性高的焊料接合层。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,是通过焊料接合层使一组构件之间接合而成的半导体装置,所述焊料接合层包括:第一结晶部,以锡原子:锑原子=1:p(0<p≤0.1)的比率包括锡和锑;以及第二结晶部,具有第一部分和第二部分中的至少一者,所述第一部分以锡原子:银原子=1:q(2≤q≤5)的比率包括锡和银,所述第二部分以锡原子:铜原子=1:r(0.4≤r≤4)的比率包括锡和铜,所述第二结晶部的平均粒径小于所述第一结晶部的平均粒径,所述焊料接合层具有第三结晶部,所述第三结晶部以锡原子:锑原子=1:s(0.8≤s≤1.6)的比率包括锡和锑。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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