[发明专利]用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物及使用其的光致抗蚀剂的剥离方法有效
| 申请号： | 201480004032.7 | 申请日： | 2014-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN104903794B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 李佑然;郑大哲;李东勋;朴泰文 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物和一种使用其剥离光致抗蚀剂的方法，其中所述用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物在移除和剥离光致抗蚀剂中表现出优异的性能，并可有效地抑制污点在含铜下膜等上的产生和残留。用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物包含至少一种胺化合物；极性有机溶剂；亚烷基二醇系溶剂；和腐蚀抑制剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光致抗蚀剂 剥离 组合 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其包含：至少一种胺化合物；极性有机溶剂；亚烷基二醇溶剂；和防腐蚀剂，其中所述亚烷基二醇溶剂包括选自双(2‑羟基乙基)醚、二醇双(羟基乙基)醚和[2‑(2‑羟基乙氧基)乙氧基]乙醇中的至少一者。
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