[实用新型]硅片湿法刻蚀机

摘要

本实用新型公开了一种便于控制刻蚀槽、碱洗槽、清洗槽内液位的硅片湿法刻蚀机。该硅片湿法刻蚀机包括机体，机体上设置有用于输送硅片的输送滚轮，在输送滚轮的下方沿硅片的移动方向依次设置有刻蚀槽、碱洗槽、清洗槽、干燥槽，通过在刻蚀槽、碱洗槽、清洗槽内设置挡板，所述挡板均由固定板与活动板组成，所述活动板通过滑轨结构连接在固定板上，这样设置有无需复杂的控制系统，只需调整活动板上边缘的位置，多余的液体会从活动板上边缘自动溢流到溢流区进而通过连通管流入对应的储液盒内，整个过程无需控制，而且刻蚀槽、碱洗槽、清洗槽内的液位可以始终保持在与活动板上边缘平起的位置，控制起来非常方便。适合在太阳能电池领域推广应用。

主权项

硅片湿法刻蚀机，包括机体(1)，所述机体(1)上设置有用于输送硅片的输送滚轮(2)，在输送滚轮(2)的下方沿硅片的移动方向依次设置有刻蚀槽(3)、碱洗槽(4)、清洗槽(5)、干燥槽(6)，所述刻蚀槽(3)下方设置有用于储存刻蚀液的第一储液盒(7)，刻蚀槽(3)上方设置有多个用于喷洒刻蚀液的第一喷管(8)，所述第一储液盒(7)上连接有第一补液管(9)，所述多个第一喷管(8)分别与第一补液管(9)连通，所述第一补液管(9)上设置有第一液泵(10)；所述碱洗槽(4)下方设置有用于储存碱液的第二储液盒(11)，碱洗槽(4)上方设置有多个用于喷洒碱液的第二喷管(12)，所述第二储液盒(11)上连接有第二补液管(13)，所述多个第二喷管(12)分别与第二补液管(13)连通，所述第二补液管(13)上设置有第二液泵(14)；所述清洗槽(5)下方设置有用于储存清洗液的第三储液盒(15)，清洗槽(5)上方设置有多个用于喷洒清洗液的第三喷管(16)，所述第三储液盒(15)上连接有第三补液管(17)，所述多个第三喷管(16)分别与第三补液管(17)连通，所述第三补液管(17)上设置有第三液泵(18)；所述干燥槽(6)内设置有多个气刀发生装置(19)，多个气刀发生装置(19)分别设置在硅片的上下两侧，其特征在于：所述刻蚀槽(3)内设置有第一挡板(20)，所述第一挡板(20)将刻蚀槽(3)分为刻蚀区(301)与第一溢流区(302)，所述第一溢流区(302)底部设置有与第一储液盒(7)连通的第一连通管(21)；所述碱洗槽(4)内设置有第二挡板(22)，所述第二挡板(22)将碱洗槽(4)分为碱洗区(401)与第二溢流区(402)，所述第二溢流区(402)底部设置有与第二储液盒(11)连通的第二连通管(23)；所述清洗槽(5)内设置有第三挡板(24)，所述第三挡板(24)将清洗槽(5)分为清洗区(501)与第三溢流区(502)，所述第三溢流区(502)底部设置有与第三储液盒(15)连通的第三连通管(25)；所述第一挡板(20)、第二挡板(22)、第三挡板(24)均由固定板(26)与活动板(27)组成，所述固定板(26)的一侧面设置有滑轨，所述活动板(27)朝向固定板(26)的侧面设置有与滑轨相匹配的滑槽。