[实用新型]硅片湿法刻蚀机

权利要求书

1.硅片湿法刻蚀机，包括机体(1)，所述机体(1)上设置有用于输送硅片的输送滚轮(2)，在输送滚轮(2)的下方沿硅片的移动方向依次设置有刻蚀槽(3)、碱洗槽(4)、清洗槽(5)、干燥槽(6)，所述刻蚀槽(3)下方设置有用于储存刻蚀液的第一储液盒(7)，刻蚀槽(3)上方设置有多个用于喷洒刻蚀液的第一喷管(8)，所述第一储液盒(7)上连接有第一补液管(9)，所述多个第一喷管(8)分别与第一补液管(9)连通，所述第一补液管(9)上设置有第一液泵(10)；所述碱洗槽(4)下方设置有用于储存碱液的第二储液盒(11)，碱洗槽(4)上方设置有多个用于喷洒碱液的第二喷管(12)，所述第二储液盒(11)上连接有第二补液管(13)，所述多个第二喷管(12)分别与第二补液管(13)连通，所述第二补液管(13)上设置有第二液泵(14)；所述清洗槽(5)下方设置有用于储存清洗液的第三储液盒(15)，清洗槽(5)上方设置有多个用于喷洒清洗液的第三喷管(16)，所述第三储液盒(15)上连接有第三补液管(17)，所述多个第三喷管(16)分别与第三补液管(17)连通，所述第三补液管(17)上设置有第三液泵(18)；所述干燥槽(6)内设置有多个气刀发生装置(19)，多个气刀发生装置(19)分别设置在硅片的上下两侧，其特征在于：所述刻蚀槽(3)内设置有第一挡板(20)，所述第一挡板(20)将刻蚀槽(3)分为刻蚀区(301)与第一溢流区(302)，所述第一溢流区(302)底部设置有与第一储液盒(7)连通的第一连通管(21)；所述碱洗槽(4)内设置有第二挡板(22)，所述第二挡板(22)将碱洗槽(4)分为碱洗区(401)与第二溢流区(402)，所述第二溢流区(402)底部设置有与第二储液盒(11)连通的第二连通管(23)；所述清洗槽(5)内设置有第三挡板(24)，所述第三挡板(24)将清洗槽(5)分为清洗区(501)与第三溢流区(502)，所述第三溢流区(502)底部设置有与第三储液盒(15)连通的第三连通管(25)；所述第一挡板(20)、第二挡板(22)、第三挡板(24)均由固定板(26)与活动板(27)组成，所述固定板(26)的一侧面设置有滑轨，所述活动板(27)朝向固定板(26)的侧面设置有与滑轨相匹配的滑槽。

2.如权利要求1所述的硅片湿法刻蚀机，其特征在于：所述气刀发生装置(19)包括喷管(191)，所述喷管(191)的两端密封，所述喷管(191)水平设置且垂直于硅片的移动方向，所述喷管(191)朝向硅片的表面沿轴向方向开有气刀缝隙(192)，所述喷管(191)上连接有进气管(193)，进气管(193)的另一端连接有空气压缩机(194)，所述空气压缩机(194)与进气管(193)之间设置有气体加热装置(195)。

3.如权利要求2所述的硅片湿法刻蚀机，其特征在于：所述气体加热装置(195)包括柱状基体(1951)，所述柱状基体(1951)内设置有圆柱形的气体加热空腔(1952)，所述柱状基体(1951)上设置有与气体加热空腔(1952)连通的进气口与出气口，所述进气口通过气管与空气压缩机(194)的出口连通，所述出气口与进气管(193)连通，所述柱状基体(1951)的表面缠绕有加热丝(1953)，所述加热丝(1953)连接在电源(1954)上。

4.如权利要求3所述的硅片湿法刻蚀机，其特征在于：所述加热丝(1953)与电源(1954)之间设置有温控表(1955)，所述气体加热空腔(1952)内设置有温度探头(1956)，所述温度探头(1956)与温控表(1955)相连接。