[实用新型]高频非穿通型绝缘栅双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201420603707.7 申请日: 2014-10-17
公开(公告)号: CN204118073U 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 龚利汀;陈丽兰;龚利贞 申请(专利权)人: 无锡固电半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214028 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种高频非穿通型绝缘栅双极型晶体管,包括N-型衬底,在N-型衬底上形成有多个网状分布的元胞;在N-型衬底的正面形成有各元胞的P型阱区和围绕晶体管有源区的P型场限环;在N-型衬底的正面最外围形成有N+电场截止环;在各元胞的P型阱区内形成有N+型发射区,在一侧的P型阱区和N+型发射区上方的表面形成有栅氧化层,栅氧化层上形成有元胞多晶硅层,元胞多晶硅层上形成有栅极金属;在另一侧的P型阱区和N+型发射区上方表面形成有发射区金属;各元胞的元胞多晶硅层、栅极金属、发射区金属均分别一一对应互连。在N-型衬底背面形成有P型集电区。该晶体管耐压高,开关速度快。
搜索关键词: 高频 非穿通型 绝缘 栅双极型 晶体管
【主权项】:
一种高频非穿通型绝缘栅双极型晶体管,包括多个网状分布的元胞,其特征在于:IGBT晶体管包括N‑型衬底(6),在N‑型衬底(6)上形成有多个元胞;在N‑型衬底(6)的正面形成有各元胞的P型阱区(10)和围绕晶体管有源区的一个或多个P型场限环(8);在N‑型衬底(6)的正面最外围形成有N+电场截止环(5);N+电场截止环(5)上方的N‑型衬底(6)的表面设有保护区多晶硅层(12);在P型场限环(8)和保护区多晶硅层(12)上方均设有金属层;在各元胞的P型阱区(10)内形成有N+型发射区(7),在一侧的P型阱区(10)和N+型发射区(7)上方的表面形成有栅氧化层(4),栅氧化层(4)上形成有元胞多晶硅层(3),元胞多晶硅层(3)上形成有栅极金属(2);在另一侧的P型阱区(10)和N+型发射区(7)上方的表面形成有发射区金属(1);各元胞的元胞多晶硅层(3)、栅极金属(2)、发射区金属(1)均分别一一对应互连;在N‑型衬底(6)背面形成有P型集电区(9);在N‑型衬底(6)背面的P型集电区(9)底表层形成有背面金属层(11)。
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