[实用新型]一种具有高质量InGaN/GaN有源层的LED外延结构有效
申请号: | 201420601588.1 | 申请日: | 2014-10-17 |
公开(公告)号: | CN204167348U | 公开(公告)日: | 2015-02-18 |
发明(设计)人: | 卓祥景;陈凯轩;林志伟;蔡建九;张永;姜伟;林志园;尧刚 | 申请(专利权)人: | 厦门乾照光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/30 | 分类号: | H01L33/30;H01L33/00 |
代理公司: | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人: | 廖吉保;唐绍烈 |
地址: | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种具有高质量InGaN/GaN有源层的LED外延结构,在衬底上依次生长缓冲层、非故意掺杂层、N型掺杂层、应力平衡层、InxGa1-xN/GaN有源层、空穴注入层、电子阻挡层及P型掺杂层;InxGa1-xN/GaN有源层由多组InxGa1-xN量子阱层及GaN量子垒层构成,其中0.1<x<0.3。本实用新型可以获得高质量InGaN/GaN有源层,提高LED发光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 质量 ingan gan 有源 led 外延 结构 | ||
【主权项】:
一种具有高质量InGaN/GaN有源层的LED外延结构,其特征在于:在衬底上依次生长缓冲层、非故意掺杂层、N型掺杂层、应力平衡层、InxGa1‑xN/GaN有源层、空穴注入层、电子阻挡层及P型掺杂层;InxGa1‑xN/GaN有源层由多组InxGa1‑xN量子阱层及GaN量子垒层构成,其中0.1<x<0.3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门乾照光电股份有限公司,未经厦门乾照光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420601588.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:发光二极管
- 下一篇:建筑用太阳能光伏中空玻璃