[发明专利]表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷布线板、电子机器、以及印刷布线板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201410412078.4 申请日: 2014-08-20
公开(公告)号: CN104427758B 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 福地亮;永浦友太;新井英太;三木敦史;新井康修;中室嘉一郎 申请(专利权)人: JX日矿日石金属株式会社
主分类号: H05K1/09 分类号: H05K1/09;H05K3/38
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷布线板、电子机器、以及印刷布线板的制造方法。该表面处理铜箔是通过粗化处理而在一个铜箔表面及/或两个铜箔表面形成粗化粒子,粗化处理表面的利用接触式粗糙度计所测得的TD的十点平均粗糙度Rz为0.20~0.80μm,粗化处理表面的MD的60度光泽度为76~350%,粗化粒子的表面积A与从铜箔表面侧俯视粗化粒子时所获得的面积B的比A/B为1.90~2.40,粗化处理表面含有选自由Ni、Co所组成的群中的任一种以上的元素,在粗化处理表面含有Ni的情况下,Ni的附着量为1400μg/dm2以下,在粗化处理表面含有Co的情况下,Co的附着量为2400μg/dm2以下。其对于使该铜箔与树脂粘接并通过蚀刻去除该铜箔后的树脂而言,可实现优异的透明性。
搜索关键词: 粗化处理表面 印刷布线板 表面处理铜箔 铜箔表面 粗化 粒子 电子机器 载体铜箔 附着量 积层板 树脂 铜箔 十点平均粗糙度 蚀刻 粗化处理 粗糙度 光泽度 接触式 去除 粘接 俯视 制造 自由
【主权项】:
1.一种表面处理铜箔,其通过粗化处理而在一个铜箔表面或两个铜箔表面形成粗化粒子,粗化处理表面的利用接触式粗糙度计所测得的TD的十点平均粗糙度Rz为0.20~0.80μm,粗化处理表面的MD的60度光泽度为76~350%,所述TD为与压延方向垂直的方向,如果为电解铜箔时,为与铜箔的前进方向垂直的方向,且所述粗化处理表面的MD为压延方向,如果为电解铜箔时,为铜箔的前进方向,所述粗化处理表面的三维表面积A与从所述铜箔表面侧俯视所述粗化粒子时所获得的二维表面积B的比A/B为1.90~2.40,粗化处理表面含有Ni、Co中的至少任一种的元素,在粗化处理表面含有Ni的情况下,Ni的附着量为1400μg/dm2以下,在粗化处理表面含有Co的情况下,Co的附着量为2400μg/dm2以下。
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