[发明专利]光电二极管以及光电二极管阵列有效
| 申请号: | 201410403704.3 | 申请日: | 2010-02-15 |
| 公开(公告)号: | CN104201219B | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
| 发明(设计)人: | 山村和久;坂本明;永野辉昌;石川嘉隆;河合哲 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号: | H01L31/0232 | 分类号: | H01L31/0232;H01L31/0236;H01L31/0352;H01L27/146;H01L31/103;H01L31/107 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 杨琦 |
| 地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 光电二极管阵列(PDA1)中,多个光检测通道(CH)包括具有n型半导体层(32)的基板(22)。光电二极管阵列(PDA1)包括:p‑型半导体层(33),其形成于n型半导体层(32)上;电阻(24),其对于各光检测通道(CH)设置并且一端部与信号导线23连接;以及n型的分离部(40),其形成于多个光检测通道(CH)之间。p‑型半导体层(33),在与n型半导体层(32)的界面构成pn结,且与光检测通道对应地具有多个使通过被检测光的入射而产生的载流子进行雪崩倍增的倍增区域(AM)。在n型半导体层(32)的表面形成有不规则的凹凸(10),该表面光学性地露出。 | ||
| 搜索关键词: | 光电二极管 以及 阵列 | ||
【主权项】:
一种光电二极管阵列,其特征在于,是将入射被检测光的多个光检测通道形成于具有第1导电类型的半导体层的硅基板而成的光电二极管阵列,包括:第2导电类型的外延半导体层,其形成于所述第1导电类型的半导体层上,在与该半导体层的界面构成pn结,并且以各倍增区域与所述各光检测通道相互对应的方式,具有使通过所述被检测光的入射而产生的载流子进行雪崩倍增的多个倍增区域;以及多个电阻,其具有两个端部,且对于各所述光检测通道而设置,经由一方的所述端部而与所述外延半导体层电性连接,并且经由另一方的所述端部而与信号导线连接,在所述第1导电类型的半导体层中的至少与所述各光检测通道对应的表面形成有不规则的凹凸,所述第1导电类型的半导体层中的至少与所述各光检测通道对应的所述表面光学性地露出,所述光电二极管阵列是背面入射型,形成有不规则的所述凹凸的所述表面被作为光入射面,从形成有不规则的所述凹凸的所述表面入射的光在所述硅基板内行进。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浜松光子学株式会社,未经浜松光子学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410403704.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





