[发明专利]布线基板的制造方法无效

专利信息
申请号: 201410353902.3 申请日: 2014-07-23
公开(公告)号: CN104349601A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 大隅孝一;野口澄子 申请(专利权)人: 京瓷SLC技术株式会社
主分类号: H05K3/24 分类号: H05K3/24;H05K3/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 韩聪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种布线基板的制造方法。在基底金属层(2a)上形成第1镀敷掩模(8),接下来在从第1镀敷掩模(8)露出的基底金属层(2a)上形成主导体层(2b),接下来在它们之上形成第2镀敷掩模(9),接下来在从第2镀敷掩模(9)露出的主导体层(2b)的上表面覆着镀敷金属层(7),接下来,在除去第1以及第2镀敷掩模(8、9)后,蚀刻除去未覆着主导体层(2b)的部分的基底金属层(2a),最后形成阻焊剂层(3)。
搜索关键词: 布线 制造 方法
【主权项】:
一种布线基板的制造方法,其特征在于,包括:在绝缘基板的上表面覆着布线导体用的基底金属层的工序;在所述基底金属层上形成使所述基底金属层露出为与布线导体对应的形状的第1镀敷掩模的工序;通过电解镀法在从所述第1镀敷掩模露出的所述基底金属层上覆着布线导体用的主导体层的工序;在所述第1镀敷掩模上以及所述主导体层上形成使与该主导体层中的半导体元件连接焊盘对应的部分的上表面露出的第2镀敷掩模的工序;通过电解镀法在从所述第1以及第2镀敷掩模露出的所述主导体层的上表面覆着镀敷金属层的工序;除去所述第1以及第2镀敷掩模的工序;蚀刻除去未覆着所述主导体层的部分的所述基底金属层,形成由所述基底金属层以及所述主导体层构成并在半导体元件连接焊盘的上表面覆着所述镀敷金属层的布线导体的工序;和在所述绝缘基板以及所述布线导体上形成具有使所述半导体元件连接焊盘露出的开口部的阻焊剂层的工序。
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