[发明专利]一种用于太阳能电池片的减反射膜及其制造方法

摘要

本发明提供一种太阳能电池减反射膜及其制造方法。该太阳能电池减反射膜包括：第一氮化硅层，覆盖于所述太阳能电池片的表面；第二氮化硅层，覆盖于所述第一氮化硅层的上表面；以及第三氮化硅层，覆盖于所述第二氮化硅层的上表面。本发明的三层氮化硅减反射膜可产生良好的钝化效果，提高冶金多晶硅电池片的短路电流，降低反向漏电流，提升光电转换效率；同时，本发明的制造方法通过采用间断性沉积技术，即在两层氮化硅薄膜的沉积之间增加一定的停顿时间，使得每层氮化硅薄膜的生长尽可能完整，制得的冶金多晶硅电池外观颜色更加均匀，可将电池片表面的色差率从原来的30％降至5％左右，大大提高了冶金多晶硅电池的合格率。

主权项

一种用于太阳能电池片的减反射膜，包括：第一氮化硅层，覆盖于所述太阳能电池片的表面，所述第一氮化硅层的厚度为26～33nm，折射率为2.6～2.8；第二氮化硅层，覆盖于所述第一氮化硅层的上表面，所述第二氮化硅层的厚度为20～29nm，折射率为2.1～2.5；以及第三氮化硅层，覆盖于所述第二氮化硅层的上表面，所述第三氮化硅层的厚度为47～56nm，折射率为2.0～2.1。