[发明专利]半导体装置及其制造方法、光接近处理方法

摘要

本发明在于提供一种包括逻辑电路的半导体装置，本发明的目的在于缩短处理时间，降低制造成本。进而，为了实现上述目的，逻辑电路的形成区域（114）包括：以规定精度被光接近修正处理的第1区域（114b，170）；以及，以低于规定精度的精度被光接近修正处理的第2区域（114a，180）。特别是，第1区域（114b，170）具有作为晶体管而动作的栅极布线（172），第2区域（114a，180）具有不作为晶体管而动作的虚拟布图（182）。

主权项

1.一种光接近处理方法，用于制造包括逻辑电路的半导体装置，其特征在于，该方法包括：在上述逻辑电路的设计布图的第1区域，以规定精度进行第1光接近修正处理的步骤（a）；以及在上述逻辑电路的设计布图的第2区域，以低于上述规定精度的精度进行第2光接近修正处理的步骤（b），上述步骤（a）在上述步骤（b）之后进行。