[发明专利]基板处理装置

摘要

一种基板处理装置，能正确检测出由流体支承的晶片等基板是否正确地处于规定的处理位置。该基板处理装置具有：擦洗器(50)，其使擦洗部件(61)与基板(W)的第1面滑动接触而对该基板(W)进行表面处理；静压支承机构(90)，其通过流体而非接触地支承基板的第2面，该第2面是第1面相反侧的面；距离传感器(103)，其对擦洗器(50)与静压支承机构(90)的距离进行测量；以及处理控制部(4)，其根据距离测量值算出静压支承机构(90)与基板(W)的第2面之间的间隙，并确定间隙是否处于规定的范围以内。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：擦洗器，该擦洗器使擦洗部件与基板的第1面滑动接触而对该基板进行表面处理；以及静压支承机构，该静压支承机构通过流体而非接触地支承所述基板的第2面，所述第2面是所述第1面相反侧的面，所述擦洗器具有按压板，该按压板具有基板接触面，该基板接触面与由所述静压支承机构支承的所述基板的第1面平行，所述按压板的基板接触面具有将所述擦洗部件的基板接触面围住的形状，在以所述擦洗器进行所述基板的表面处理期间，所述按压板的基板接触面与所述基板的第1面接触。