[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：

擦洗器，该擦洗器使擦洗部件与基板的第1面滑动接触而对该基板进行表面处理；

以及静压支承机构，该静压支承机构通过流体而非接触地支承所述基板的第2面，所述第2面是所述第1面相反侧的面，

所述擦洗器具有按压板，该按压板具有基板接触面，该基板接触面与由所述静压支承机构支承的所述基板的第1面平行，

所述按压板的基板接触面具有将所述擦洗部件的基板接触面围住的形状，

在以所述擦洗器进行所述基板的表面处理期间，所述按压板的基板接触面与所述基板的第1面接触。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述按压板的基板接触面由软质衬垫构成。

3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述擦洗器还具有使所述按压板相对于所述擦洗部件移动的相对移动机构，该相对移动机构使所述按压板向接近及离开所述基板的第1面的方向移动。