[发明专利]用于驱动集成电路的金属凸块结构及其制造方法有效
申请号: | 201410189747.6 | 申请日: | 2014-05-06 |
公开(公告)号: | CN104143539B | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 林久顺 | 申请(专利权)人: | 奇景光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L21/60 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种用于驱动集成电路的金属凸块结构及其制造方法。该金属凸块结构包含位于金属焊垫上的护层、位于金属焊垫上又部分位于护层上的黏着层、部分位于凹穴中并覆盖黏着层的金属凸块、以及完全覆盖金属凸块的覆层。覆层具有横向延伸的侧翼,且侧翼位于护层上。 | ||
搜索关键词: | 用于 驱动 集成电路 金属 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种金属凸块结构,其用于一驱动集成电路中并包含:金属焊垫;护层,位于该金属焊垫上,并定义出位于该金属焊垫上的一凹穴;黏着层,完全位于该凹穴中、位于该金属焊垫上、又部分位于该护层上,其中该黏着层直接接触该金属焊垫以及该护层;金属凸块,填入该凹穴中并覆盖该黏着层,且该金属凸块通过熟化步骤来达到所需的硬度;覆层,完全覆盖该金属凸块,而使得该金属凸块不会暴露出来,其中该覆层具有横向延伸的一侧翼,且该侧翼位于该护层上,该覆层为一帽盖层且该侧翼为对应于该帽盖层的一帽盖侧翼;以及合金,其由该覆层与该金属凸块通过熟化步骤形成,且位于该覆层与该金属凸块之间。
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