[发明专利]具有磁解耦的籽晶层的读取器在审

专利信息
申请号: 201410082831.8 申请日: 2014-03-07
公开(公告)号: CN104036791A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: V·B·萨波日尼科夫;T·G·泊克希尔;M·S·U·帕特瓦瑞 申请(专利权)人: 希捷科技有限公司
主分类号: G11B5/667 分类号: G11B5/667;G11B5/11
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 何焜
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请公开了具有磁解耦的籽晶层的读取器。一种包括底部屏蔽层和传感器叠层的装置,其中底部屏蔽层通过第一软磁层与传感器叠层隔开,该第一软磁层从底部屏蔽层磁解耦。
搜索关键词: 具有 磁解耦 籽晶 读取器
【主权项】:
一种装置,包括:底部屏蔽层;以及传感器叠层,其中所述底部屏蔽层通过第一软磁层与所述传感器叠层隔开,所述第一软磁层从所述底部屏蔽层磁解耦。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于希捷科技有限公司,未经希捷科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410082831.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 垂直磁记录介质和磁记录再现装置-201610208270.0
  • 徐晨;黑川刚平 - 昭和电工株式会社
  • 2016-04-06 - 2019-06-25 - G11B5/667
  • 本发明提供垂直磁记录介质和磁记录再现装置。本发明的垂直磁记录介质是在非磁性基板上依次至少层叠背衬层、基底层、中间层、垂直磁记录层而成的,其中,所述背衬层至少具备具有非晶质结构的软磁性膜,所述基底层是从所述非磁性基板侧起层叠第1基底层和第2基底层而成的,所述第1基底层由非晶质结构的TiV合金构成,所述第2基底层包含NiW合金,所述中间层包含Ru或Ru合金,具有所述非晶质结构的软磁性膜、第1基底层、第2基底层相接地设置。
  • 磁记录介质及磁记录再生装置-201611161241.X
  • 井上健;长谷川浩太 - 昭和电工株式会社
  • 2016-12-15 - 2019-05-07 - G11B5/667
  • 一种磁记录介质,其非磁性基板上至少设置了软磁性底层、配向控制层、垂直磁性层及保护层,垂直磁性层从基板侧开始依次包括第1至第4磁性层,第1至第4磁性层为粒状结构磁性层,构成第1至第4磁性层的磁性颗粒为连续柱状晶,第1磁性层和第2磁性层之间及第2磁性层和第3磁性层之间分别具有交换结合控制层,第3磁性层与第4磁性层接触,第1至第4磁性层为强磁结合,在第1至第4磁性层的磁各向异性常数为Kui、饱和磁化强度为Msi及膜厚为ti时,满足Kui>Kui+1(i=1,2)、Msi·ti>Msi+1·ti+1(i=1,2)、Kui<Kui+1(i=3)及Msi·ti<Msi+1·ti+1(i=3)的关系。
  • 磁性记录介质及其制造方法-201410196800.5
  • 立花淳一;伊藤条太;尾崎知惠;平塚亮一;关口昇;远藤哲雄 - 索尼公司
  • 2014-05-09 - 2018-11-16 - G11B5/667
  • 本发明涉及磁性记录介质及其制造方法。提供了一种磁性记录介质,该磁性记录介质包括:基体;籽晶层;基础层;以及记录层,该籽晶层被设置在基体与基础层之间,该籽晶层具有非晶态、包括包含Ti、Cr和O的合金,并且基于包含在籽晶层中Ti和Cr的总量,Ti的百分比为30原子%至100原子%,并且基于包含在籽晶层中Ti、Cr和O的总量,O的百分比为15原子%以下。此外,还提供了该磁性记录介质的制造方法。
  • 垂直磁记录介质及磁存储装置-201510818080.6
  • 长谷川浩太;鹈饲高广;山川荣进;圆谷志郎;境诚司 - 昭和电工株式会社;日本原子力研究开发机构
  • 2015-11-23 - 2018-10-12 - G11B5/667
  • 本发明提供一种垂直磁记录介质及磁存储装置。一种垂直磁记录介质,包括非磁性衬底;垂直磁性层,其设在所述非磁性衬底的上方;以及保护层,其设在所述垂直磁性层上。所述垂直磁性层具有六角密积结构、并包括多个堆叠的层,该多个堆叠的层具有相对于所述非磁性衬底的表面平行取向的(0002)晶面。所述垂直磁性层的多个堆叠的层中的最上层包括多晶体晶粒,所述多晶体晶粒选自CoCr基合金、CoPt基合金、CoCrPt基合金、及CoPtCr基合金构成的组。所述保护层与所述垂直磁性层的所述最上层接触,并且所述保护层包括单一石墨烯层或石墨烯层叠体、以及非晶碳层。所述单一石墨烯层或所述石墨烯层叠体与所述多晶体晶粒的(0002)晶面平行结合。
  • 磁存储器、提供该磁存储器和编程该磁存储器的方法-201410095613.8
  • A.E.昂格;A.V.克瓦尔科夫斯基;D.阿帕尔科夫 - 三星电子株式会社
  • 2014-03-14 - 2018-08-28 - G11B5/667
  • 公开了一种包括存储阵列片(MAT)、中间电路、全局位线和全局电路的磁存储器,提供该磁存储器和编程该磁存储器的方法。每个MAT包括位线、字线和具有(多个)磁性结、(多个)选择设备、以及邻近于所述(多个)磁性结的自旋与轨道相互作用(SO)活性层的至少一部分的磁存储器。由于穿过SO活性层的预处理电流导致SO活性层在(多个)磁性结上施加SO转矩。(多个)磁性结可使用驱动通过通过(多个)磁性结的(多个)写电流和预处理电流编程。所述位线和字线相应于磁存储器单元。中间电路控制MAT之内的读取和写操作。每个全局位线相应于MAT的一部分。全局电路选择并驱动部分全局位线以用于读取操作和写操作。
  • 垂直磁记录介质-201210055650.7
  • 穗积康彰 - 富士电机株式会社
  • 2012-03-05 - 2018-01-30 - G11B5/667
  • 本发明提供一种垂直磁记录介质,其不改变现有的层叠结构就能够提高磁记录层的磁各向异性,从而通过记录信号的热稳定性。一种垂直磁记录介质,是在非磁性基体上至少依次层叠有中间层、第二基底层和磁记录层的垂直记录介质,其特征在于,中间层为Ru或Ru基合金的单一层结构,或者为含有Co和Cr的非磁性合金层和Ru或者Ru基合金的层的层叠结构,该第二基底层包含30at%以上75at%以下的Co、20at%以上60at%以下的Cr和0.1at%以上10at%以下的W,第二基底层具有0.1nm以上1.0nm以下的膜厚。
  • 磁记录用软磁性合金、溅射靶材及磁记录介质-201280008677.9
  • 清水悠子 - 山阳特殊制钢株式会社
  • 2012-02-10 - 2016-11-30 - G11B5/667
  • 本发明提供一种以at.%计包含:0.5%以上的(A)选自Ta、Nb及V中的元素的1种或2种以上;0.5%以上的(B)选自Cr、Mo及W中的元素的1种或2种以上;0~5%的(C)选自Ti、Zr及Hf中的元素的1种或2种以上;0~30%的(D)选自Ni及Mn中的元素的1种或2种;0~5%的(E)选自Al及Cu中的元素的1种或2种;0~10%的(F)选自Si、Ge、P、B及C中的元素的1种或2种以上;剩余部分由Co及Fe以及不可避免的杂质构成的磁记录用软磁性合金。该合金的Fe∶Co的比为10∶90~70∶30,并且(A)组元素、(B)组元素及(C)组元素的总量为所述合金的10~30%。本发明的合金的非晶性、硬度、以及耐腐蚀性优异,适于用作垂直磁记录介质用的软磁性合金。
  • 一种软/硬磁交换耦合结构-201610308998.0
  • 陆海鹏;侯志华;毕美;王昕;谢建良;邓龙江 - 电子科技大学
  • 2016-05-11 - 2016-10-12 - G11B5/667
  • 本发明涉及磁性材料与元器件领域,具体涉及一种软/硬磁交换耦合结构。本发明通过将现有嵌入型软/硬磁交换耦合结构中的硬磁材料分为两部分且由软磁材料层隔离形成新的软/硬磁交换耦合结构,通过微磁学模拟可见该结构能够有效降低高磁晶各向异性常数材料的矫顽力,且矩形度较好。本发明结构通过规则间隔排列应用于磁存储中,且对于磁晶各向异性常数Ku值高达7×106J/m3的材料,能够有效降低矫顽力,且矩形度较好,能够满足垂直磁记录的要求并能解决写入困难的问题。
  • 图案形成方法和磁记录介质的制造方法-201410454113.9
  • 木村香里;藤本明;渡部彰 - 株式会社东芝
  • 2014-09-05 - 2015-10-28 - G11B5/667
  • 本发明的实施方式提供能够形成面内均匀性良好的周期性图案的图案形成方法和磁记录介质的制造方法。根据实施方式,能够提供一种图案形成方法,该方法包括:在基板上,向具有表面极性与该基板相近的第1保护基、且至少在表面具有选自Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W、Au、Ag、Pd、Cu、Pt、及其氧化物中的材料的微粒添加第2保护基和第2溶剂,调制第2分散液,并用该第2保护基修饰具有第1保护基的微粒的工序;向包含具有第1保护基和第2保护基的微粒的分散液添加粘度调整剂,调制微粒涂布液的工序;以及,涂布微粒涂布液,在基板上形成微粒层的工序。
  • 磁记录介质-201380004314.2
  • 内田真治 - 富士电机株式会社
  • 2013-06-07 - 2014-08-20 - G11B5/667
  • 本发明的目的在于能提供磁记录介质,其同时满足所需的SNR和EWAC特性,且能应对记录密度的上升。本发明的磁记录介质的特征在于,至少包含在中心有孔的圆盘状的非磁性基体、软磁性衬里层以及磁记录层,在软磁性衬里层中,在100MHz~700MHz的任意频率的磁场下的相对导磁率从圆盘外周到圆盘内周变高,且相对导磁率的特性频率从上述圆盘内周到上述圆盘外周变高。
  • 磁记录介质-201210080584.9
  • 田中良和;千叶德男;大海学;平田雅一;筱原阳子;田边幸子 - 精工电子有限公司
  • 2012-03-16 - 2012-09-26 - G11B5/667
  • 本发明提供能够有效地加热期望的磁性体而以高可靠性进行写入并能够确保记录时的其他磁性体的热稳定性而抑制记录消失或误记录等的磁记录介质。本发明的磁记录介质,在基板(2)形成有记录层(4),在构成记录层(4)的多个记录位区域(11)各自的内侧,设置有热传导率比记录层(4)更高的高热传导体(14)。另外,在记录层(4),形成有将记录层(4)划分为多个记录位区域(11)的分割部(12),在分割部(12),填充有热传导率比记录层(4)更低的低热传导体(13)。
  • 靶材及其使用于硬碟的记录层材料-201010537842.2
  • 刘文灿;林守贤 - 光洋应用材料科技股份有限公司
  • 2010-11-10 - 2012-05-23 - G11B5/667
  • 本发明是提供一种靶材及其使用于硬碟的记录层材料,该靶材是以CoPt或CoCrPt或CoCrPtB为主的材料中再添加氧化物组合物所形成,以该靶材在溅镀过程中,制作一高记录容量的硬碟记录层材料,该硬碟记录层材料的主要氧化物是二氧化硅(SiO2),其含量为4至8原子百分比,且氧化物组合物中至少包含0.8至5原子百分比的氧化铬(Cr2O3)为其主要的技术特征;当中以Cr2O3作为氧的补偿者,在溅镀薄膜过程中,补足所缺失的氧原子;藉由此多氧化物所组合成的靶材及其使用于硬碟的记录层材料,广泛应用于硬碟磁性记录媒体的记录层,可往上提升并提高整体储存媒体的记录容量。
  • 包括具有凸状磁各向异性轮廓的垂直磁记录层的装置-201110275981.7
  • T·P·诺兰;H·J·里齐特 - 希捷科技有限公司
  • 2011-07-29 - 2012-03-21 - G11B5/667
  • 本发明为包括具有凸状磁各向异性轮廓的垂直磁记录层的装置。一种装置可以包括第一磁性层、第一磁性层上形成的第一交换中断层、第一交换中断层上形成的第二磁性层、第二磁性层上形成的第二交换中断层、第二交换中断层上形成的第三磁性层。第一磁性层具有第一磁各向异性能Hk1,第二磁性层具有第二磁各向异性能Hk2,第三磁性层具有第三磁各向异性能Hk3。在某些实施例中,Hk1-Hk2小于Hk2-Hk3。在某些实施例中,该装置是垂直磁记录介质。
  • 磁记录介质及其制造方法以及磁记录再生装置-200980147723.1
  • A.K.辛格;远藤大三;V.S.孔;陈小东 - 昭和电工HD新加坡有限公司
  • 2009-12-01 - 2011-10-26 - G11B5/667
  • 本发明涉及一种能够实现软磁性基底层的高磁导率和反铁磁性耦合这两者的磁记录介质等。即,本发明的磁记录介质,是在非磁性基板之上至少层叠使多个软磁性层反铁磁性耦合了的软磁性基底层和易磁化轴相对于上述非磁性基板主要垂直地取向的垂直磁性层而成的磁记录介质,软磁性层以Fe为第1主成分,以Co为第2主成分,还含有Ta,软磁性基底层利用根据被夹在多个软磁性层之间的分隔层的厚度而变化的反铁磁性耦合力的第2个及其以后显现的峰来反铁磁性耦合,并且,其磁导率为1000H/m以上。
  • 一种超高密度垂直磁记录磁性薄膜及其制备方法-201110052933.1
  • 张朋越;周连明;泮敏翔 - 南通万宝实业有限公司
  • 2011-03-07 - 2011-09-21 - G11B5/667
  • 一种超高密度垂直磁记录磁性薄膜及其制备方法,涉及磁记录、信息存储和再现信息记录等技术领域,在清洗后的单晶硅片的背面放置永磁体,当磁溅射室内的背底真空度为3×10-5~8×10-5Pa、氩气气压为0.7~0.9Pa时开始进行CoFePtC磁溅射,在单晶硅片的正面形成Co1-x-yFexPtCy沉积薄膜,然后将单晶硅片放入真空退火炉中进行热处理,形成厚度为300~800nm的薄膜。本发明添加掺杂原子Fe和间隙原子C,有效提高和控制了薄膜在垂直方向的磁晶各向异性,使薄膜具有垂直取向度高、矫顽力大和化学稳定性好等特点。
  • 磁记录介质及其制造方法-201010556737.3
  • 大野俊典;桧上龙也;药师神弘士 - 日立环球储存科技荷兰有限公司
  • 2010-11-18 - 2011-06-08 - G11B5/667
  • 本发明提供一种磁记录介质及其制造方法。本发明提供了一种分隔记录区域磁记录介质,所述分隔记录区域磁记录介质设置有在包括铁磁层的记录区域之间的包括非磁性层的分隔区域,并且即使铁磁层的各区之间的面内距离不同,所述分隔的记录区域磁记录介质也具有极好的磁头浮动特性;以及还提供一种用于制造该磁记录介质的方法。一种磁记录介质以及用于制造其的方法,在该磁记录介质中,磁记录层直接在基板上形成或利用位于其间的至少中间层在基板上形成,其中磁记录层是具有记录区域以及用于分隔记录区域的分隔区域(102)的图案化介质,并且在分隔区域(102)中形成包含Ti的非磁性合金层(103-2)。
  • 一种具有软磁性涂层的芯片-201020544911.8
  • 焦林 - 焦林
  • 2010-09-27 - 2011-04-06 - G11B5/667
  • 本实用新型公开了一种具有软磁性涂层的芯片,包括有芯片本体,其特征在于,所述芯片本体的背面涂覆有一层软磁涂层,所述带有软磁涂层的芯片可以在磁性轨道上,跟随磁场变化而移动,方便芯片的排列和安装,本实用新型的有益效果在于,可以利用电磁笔的磁性吸附芯片,可以吸附体积更小的芯片,如0.2mm×0.2mm的芯片,卸下芯片时以反向电流瞬间反向磁场,可以快速稳定的卸下芯片,不会产生现有技术中真空吸笔卸下芯片的吹气芯片的位移问题,技术效果可靠,提高了工作效率。
  • 垂直磁记录介质及其制造和相应的磁存储装置-201010202485.4
  • 殿冈俊;荒井礼子;中川宏之;棚桥究 - 日立环球储存科技荷兰有限公司
  • 2010-06-09 - 2010-12-22 - G11B5/667
  • 垂直磁记录介质及其制造和相应的磁存储装置。根据一个实施方案,垂直磁记录介质包括在衬底上方的至少一个软磁性底层;在所述至少一个软磁性底层上方的晶种层;在所述晶种层上方的中间层;在所述中间层上方的磁记录层;以及在所述磁记录层上方的保护层,其中所述晶种层包括在第一晶种层上方的第二晶种层。在另一个实施方案中,所述晶种层为至少两个周期的层积膜单元的层积结构,所述层积膜单元包括第一晶种层和第二晶种层。所述第一晶种层包括具有面心立方(FCC)结构的非磁性合金,以及所述第二晶种层包括具有FCC结构的软磁性合金。根据更多的实施方案,还公开了其他结构。
  • 具有增强的写入性能和热稳定性的磁记录介质-201010155476.4
  • 卞波;王首涛;W·徐;A·海卢;M·鲁;C·C·陈;T·P·诺兰;A·Y·多宾 - 希捷科技有限公司
  • 2010-02-20 - 2010-11-10 - G11B5/667
  • 本发明涉及具有增强的写入性能和热稳定性的磁记录介质,具体涉及带有用于改进写入性能的增强的磁性能的记录介质。实施例包括或涉及方法、系统和组件,其在减少为获得均一磁性能而产生的缺陷的同时能改进写入性能,均一的磁性能例如均一的高各向异性和窄的开关磁场分布。一些实施例包括带有交互调整层的记录介质,所述交互调整层插入在硬层和软、半软或薄的半硬层之间,用来最大程度地改进写入性能。优选地,交互调整层是颗粒状并且减少或优化磁性记录或存储设备中硬层和软、半软或半硬层之间的垂直耦合。
  • 垂直磁记录介质-200910208195.8
  • 荒井礼子;中川宏之 - 日立环球储存科技荷兰有限公司
  • 2009-11-02 - 2010-06-16 - G11B5/667
  • 本发明提供一种垂直磁记录介质,其实现优异的记录/再现特性,并满足高记录密度的要求。粘合层(12)、软磁衬层(13)、籽层(14)、中间层(15)和记录层(16)顺序叠置在衬底(11)上。籽层(14)具有层叠结构,包括第一籽层(141)和第二籽层(142)。第一籽层(141)由包括CoFe合金的具有fcc晶格结构的磁合金构成,第二籽层(142)由包括NiW合金的具有fcc结构的非磁合金构成。
  • 垂直磁记录介质和使用其的磁存储器-200910133880.9
  • 玉井一郎;棚桥究 - 日立环球储存科技荷兰有限公司
  • 2009-04-08 - 2009-10-14 - G11B5/667
  • 本发明提供一种垂直磁记录介质和使用其的磁存储器。所述垂直磁记录介质包括基板,该基板上至少顺序具有软磁层、非磁中间层、垂直记录层和保护层,其中所述垂直记录层从靠近所述基板一侧起包括第一记录层、第二记录层和第三记录层三层或更多层,所述第一记录层和所述第二记录层具有颗粒结构,包括围绕包含Co和Pt的铁磁晶粒的氧化物晶粒边界,所述第三记录层具有非颗粒结构,主要包括Co且不包含氧化物,所述第一记录层的晶粒边界含有Si,Cr和氧,以及选自Ti、Ta和Nb中的至少一种元素,所述第二记录层的晶粒边界包含Cr和氧,或者包含Cr和氧,以及选自Si、W和V中的至少一种元素。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top