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[发明专利]磁记录再现装置及磁记录再现方法-CN202210527850.1在审
发明人： 木村香里;大竹雅哉;竹尾昭彦 -专利权人：株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
申请日： 2022-05-16 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G11B5/127 文献下载
摘要：本发明提供磁记录再现装置及磁记录再现方法，能够防止磁记录再现装置的寿命的恶化。实施方式的磁记录再现装置包括：多个磁记录介质，分别具有记录面；多个辅助记录用磁头，与记录面对应地分别设置，进行辅助记录；及辅助量调整部，连接于多个辅助记录用磁头，分别调整与记录面的记录容量对应的辅助用磁头的辅助量。
记录再现装置方法

[发明专利]磁盘装置-CN202210115930.6在审
发明人： 木村香里;竹尾昭彦;松本拓也 -专利权人：株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
申请日： 2022-02-07 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G11B5/31 文献下载
摘要：本发明提供能抑制磁头的劣化来实现可靠性的提高的磁盘装置。根据实施方式，磁盘装置具有：自如旋转的盘状的记录介质(12)；磁头(16)，该磁头具有：具有向记录介质施加记录磁场的主磁极的写入头、辅助利用主磁极的磁记录的辅助元件、以及控制相对于记录介质的头斜度的多个热执行器；以及磁控制器(40)，该控制器具有检测头的劣化的检测部(46a、46c)，根据检测出的劣化，通过热执行器而使磁头的头斜度变化。
磁盘装置

[发明专利]磁记录再现装置-CN201811553945.0有效
发明人：友田悠介;木村香里;竹尾昭彦 -专利权人：株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
申请日： 2018-12-19 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： G11B5/31 文献下载
摘要：实施方式提供一种抑制磁通控制层的氧化且具有高可靠性的磁记录再现装置。实施方式的磁记录再现装置包括设置于主磁极与辅助磁极之间的磁通控制层和设置于辅助磁极的ABS的保护层。磁通控制层包括设置于第1导电层与第2导电层之间的、由包含Fe、Co或Ni中的至少1种的磁性材料形成的调整层，通过通电而产生自旋转矩，使调整层内的磁化的方向反转。施加于磁通控制层的电压Vb比由下式(1)表示的Vba低。Vba＝Vb0‑a×1/log(t)×log(RH)×log(PO2)…(1)。
记录再现装置

[发明专利]粒子层的涂布方法、及磁记录介质的制造方法-CN201410738831.9在审
发明人：渡部彰;木村香里;鬼冢刚 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-12-05 - 公布日： 2016-02-10 - 主分类号： G11B5/851 文献下载
摘要：本发明的实施方式提供一种粒子层的涂布方法，所述方法可以得到间距分散良好的粒子排列。根据实施方式，得到一种粒子层的涂布方法，所述方法包括以下工序：使粒子分散于溶剂中从而制作成粒子涂布液，所述粒子在表面具有使用第一高分子材料形成的第一被覆层；以及在基板上涂布粒子涂布液从而形成单粒子层，所述基板具有使用与第一高分子材料具有相同骨架的第二高分子材料形成的第二被覆层。
粒子方法记录介质制造

[发明专利]磁记录介质的制造方法-CN201410720604.3在审
发明人：渡部彰;木村香里;岩崎刚之 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-12-02 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： G11B5/66 文献下载
摘要：本发明的实施方式提供能够得到基板与粒子之间的良好密合性的磁记录介质的制造方法。实施方式涉及的磁记录介质的制造方法包括：在基板上形成熔敷层，在熔敷层上形成含有硅的保持层，使用含有能够与熔敷层熔敷的金属的粒子在保持层上形成单粒子层，使用含有氢氟酸和过氧化氢的蚀刻溶液对保持层中的二氧化硅进行蚀刻，将粒子埋入保持层内直到与熔敷层接触，通过加热使粒子与熔敷层熔敷，以及在单粒子层上形成磁记录层。
记录介质制造方法

[发明专利]图案形成方法和磁记录介质的制造方法-CN201410454113.9在审
发明人： 木村香里;藤本明;渡部彰 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-09-05 - 公布日： 2015-10-28 - 主分类号： G11B5/667 文献下载
摘要：本发明的实施方式提供能够形成面内均匀性良好的周期性图案的图案形成方法和磁记录介质的制造方法。根据实施方式，能够提供一种图案形成方法，该方法包括：在基板上，向具有表面极性与该基板相近的第1保护基、且至少在表面具有选自Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W、Au、Ag、Pd、Cu、Pt、及其氧化物中的材料的微粒添加第2保护基和第2溶剂，调制第2分散液，并用该第2保护基修饰具有第1保护基的微粒的工序；向包含具有第1保护基和第2保护基的微粒的分散液添加粘度调整剂，调制微粒涂布液的工序；以及，涂布微粒涂布液，在基板上形成微粒层的工序。
图案形成方法记录介质制造

[发明专利]垂直磁记录介质和垂直磁记录介质的制造方法-CN201410742467.3在审
发明人： 木村香里;及川壮一;泷泽和孝;藤本明;竹尾昭彦 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-12-05 - 公布日： 2015-06-10 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明的实施方式提供一种抑制磁性粒子的粒径分散，具有良好的记录再生特性，能够高密度记录的垂直磁记录介质。实施方式涉及的垂直磁记录介质具有：基板、在基板上形成的基底层、和在基底层之上形成的以与膜面垂直的方向为易磁化轴的磁记录层。基底层具有间隔1nm～20nm的距离而排列的多个凸部。磁记录层包含以顶端从基底层的凸部表面开始扩大的方式分别形成的多个磁粒子，至少凸部侧的磁粒子被分离。
垂直记录介质制造方法

[发明专利]图案形成方法、和磁记录介质的制造方法-CN201410033817.9在审
发明人：渡部彰;泷泽和孝;木村香里 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-01-24 - 公布日： 2015-04-15 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明的课题是形成良好的微细图案。因而提供了一种图案形成方法，包含以下工序：使用表面处理高分子材料在基板上形成表面处理高分子膜的工序；将含有该表面处理高分子材料的单体或低聚物的溶液施用在该表面处理高分子膜表面上的工序；在表面处理高分子膜上，涂布含有具有至少2种聚合物链的嵌段共聚物的涂布液，而形成自组装层的工序；通过退火，由此在自组装层内形成微观相分离结构的工序；以及选择性地将微观相分离结构中的1种聚合物层除去，由残存的聚合物层形成凸图案的工序。
图案形成方法记录介质制造

[发明专利]光电转换层和其于太阳能电池、光电二极管和图象传感器的应用-CN201410478173.4无效
发明人：藤本明;岩崎刚之;木村香里;泷泽和孝;中村健二;真竹茂 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-09-18 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： H01L31/04 文献下载
摘要：本公开提供了含有半导体和分散于其中的多个含金属微小结构的光电转换层。所述微小结构是包含金属材料(α)的微小结构(A)或否则包含金属材料(α)和材料(β)的微小结构(B)，所述材料(β)选自由不同于所述金属材料(α)和所述半导体中的任一个的物质的氧化物、氮化物和氧氮化物组成的组。在所述微小结构(B)中，所述材料(β)在所述金属材料(α)的表面上。所述微小结构中的每一个都具有基于当从特定方向观察时的投影面积的1nm到10nm且包括端值的等圆直径。在该方向上，所述微小结构具有最小总投影面积。相邻两个所述微小结构之间的最近距离是3nm到50nm且包括端值的。本公开还提供了所述光电转换层于太阳能电池、光电二极管和图象传感器的应用。
光电转换太阳能电池光电二极管图象传感器应用

[发明专利]图案形成方法、剥离方法、磁记录介质的制造方法、磁记录介质、以及压模的制造方法-CN201410035861.3在审
发明人：泷泽和孝;木村香里;竹尾昭彦 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-01-24 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明的课题是得到一种图案尺寸精度良好的图案形成方法。作为解决手段，提供一种图案形成方法，其包括：在基板上形成被加工层的工序；向包含贵金属微粒子和第1溶剂的第1分散液，添加包含高分子材料和第2溶剂的第2分散液，制作分散有被高分子材料被覆了的微粒子的贵金属微粒子层涂布液的工序，所述高分子材料包含在末端具有贱金属的高分子链；使用贵金属微粒子层涂布液，在被加工层上使被高分子材料被覆了的贵金属微粒子排列的工序；和向被加工层转印被高分子材料被覆了的贵金属微粒子的凹凸图案的工序。
图案形成方法剥离记录介质制造以及

[发明专利]图案形成方法、磁记录介质的制造方法、以及磁记录介质-CN201410037108.8在审
发明人：渡部彰;菅原克也;泷泽和孝;木村香里 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-01-26 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明涉及图案形成方法、磁记录介质的制造方法、以及磁记录介质。使用自组装膜而形成密度高的微细图案。根据实施方式，反复进行2次或3次下述工序，与形成了1层的二嵌段共聚物层的情况相比提高凸图案的密度，所述工序是形成二嵌段共聚物层，相分离为海岛相，然后对海状相进行蚀刻的工序。
图案形成方法记录介质制造以及

[发明专利]图案形成方法、磁记录介质的制造方法及微粒子分散液-CN201410344999.1在审
发明人： 木村香里;泷泽和孝;藤本明 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-07-18 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明提供一种图案形成方法、磁记录介质的制造方法及微粒子分散液，所述图案形成方法能够形成面内均匀性良好的周期性图案。根据实施方式，提供一种图案形成方法，所述方法包括以下工序：在基板或掩模层上涂布微粒子涂布液从而在基板或掩模层上形成微粒子层的工序，所述微粒子涂布液含有微粒子、粘度调节剂和溶剂，所述微粒子具有表面极性接近的保护基且至少在表面具有选自Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W、Au、Ag、Pd、Cu、Pt、及它们的氧化物中的材料，所述溶剂用于调节粘度调节剂与具有保护基的微粒子的混合。
图案形成方法记录介质制造微粒子分散

[发明专利]图案形成方法和磁记录介质的制造方法-CN201410033231.2在审
发明人： 木村香里;泷泽和孝;藤本明 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-01-24 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：在磁记录介质形成面内均匀性良好的周期性图案。根据实施方式，在磁记录层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液，形成单层的微粒子层，所述微粒子被保护层被覆，且至少在表面具有选自Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W及其氧化物中的材料，所述保护层包含第1添加剂和第2添加剂的混合物，所述第1添加剂具有用于提高对磁记录层的润湿性的直链结构以及羧基等，所述第2添加剂具有羧基等以及聚合性官能团，应用热能或者光能，使聚合性官能团反应而使保护层固化，并且固着于磁记录层上，形成周期性图案。
图案形成方法记录介质制造

[发明专利]磁记录介质、磁记录介质的制造方法以及磁记录装置-CN200880000667.4无效
发明人：汤泽亚希子;樱井正敏;镰田芳幸;白鸟聪志;木村香里;鬼塚刚 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2008-06-20 - 公布日： 2009-09-23 - 主分类号： G11B5/65 文献下载
摘要：根据一个实施例，一种磁记录介质包括形成在基底上的凸起的磁图形；以及填充在所述磁图形之间的凹陷处并由含有Ni或Cu以及含有从Ta、Nb、Ti、Zr、Hf、Cr、Mo和Ag中选出来的两种或两种以上金属的多元素非晶合金构成的非磁性材料。
记录介质制造方法以及装置

[发明专利]制造离散轨道记录介质的方法和离散轨道记录介质-CN200880000660.2无效
发明人：镰田芳幸;白岛聪志;木村香里;樱井正敏 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2008-06-20 - 公布日： 2009-09-23 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：根据本发明一个实施例，一种制造离散轨道记录介质的方法包括：在衬底上形成突起的磁性图形；伴随着将所述衬底沿其平面旋转小于一周的角度而两次或更多次重复这样的工艺，即，沉积非磁性材料以填充在所述磁性图形之间的凹进中和回蚀所述非磁性材料。
制造离散轨道记录介质方法

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