[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201410061291.5 | 申请日: | 2014-02-24 |
公开(公告)号: | CN104425581B | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 原琢磨;中村和敏;小仓常雄 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种半导体装置,具备具有第1面和对置于上述第1面的第2面的第1导电型的第1半导体层、和形成在上述第1半导体层的上述第1面上的第2导电型的第2半导体层。进而,上述装置具备形成于上述第1及第2半导体层上且在与上述第1面平行的第1方向上延伸的多个控制电极、和在上述第2半导体层的与上述第1半导体层相反的一侧沿着上述第1方向交替地形成的多个上述第1导电型的第3半导体层及多个上述第2导电型的第4半导体层。进而,上述装置具备在上述第2半导体层的上述第1半导体层侧、或被上述第2半导体层包围的位置上形成的多个上述第1导电型的第5半导体层;上述第5半导体层沿着上述第1方向相互离开而配置。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,具备:第1电极及第2电极;第1导电型的第1半导体层,位于上述第1电极与上述第2电极之间,在上述第1电极侧具有第1面,在上述第2电极侧具有对置于上述第1面的第2面;第2导电型的第2半导体层,形成在上述第1半导体层的上述第1面上,并且位于上述第1电极与上述第1半导体层之间;多个控制电极,隔着绝缘膜形成在上述第1半导体层及第2半导体层上,在平行于上述第1面的第1方向上延伸;多个上述第1导电型的第3半导体层及多个上述第2导电型的第4半导体层,在上述第2半导体层的与上述第1半导体层相反的一侧,沿着上述第1方向交替地形成,并且位于上述第1电极与上述第2半导体层之间;以及多个上述第1导电型的第5半导体层,在上述第2半导体层的上述第1半导体层侧、或被上述第2半导体层包围的位置上形成,上述第5半导体层沿着上述第1方向相互离开而配置,上述第5半导体层设置在上述第1半导体层的在与上述第1面垂直的第2方向上、与上述第3半导体层重叠的位置上。
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