[发明专利]气相生长装置及气相生长方法有效

专利信息
申请号: 201410041218.1 申请日: 2014-01-28
公开(公告)号: CN103966574B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 山田拓未;佐藤裕辅 申请(专利权)人: 纽富来科技股份有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C30B25/14;H01L21/205
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 庞乃媛,黄剑锋
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的实施形态的气相生长装置,具备反应室;配置在反应室的上部,具有配置在第1水平面内、互相平行地延伸的多个第1横向气体流路,与第1横向气体流路连接、沿纵向延伸、在反应室一侧具有第1气体喷出孔的多个第1纵向气体流路,配置在比第1水平面靠上方的第2水平面内、沿与第31横向气体流路相同的方向互相平行延伸的多个第2横向气体流路,以及与第2横向气体流路连接、经过第1横向气体流路之间沿纵向延伸、在反应室一侧具有第2气体喷出孔的多个第2纵向流路,给反应室内提供气体的淋浴板;以及设置在反应室内的上述淋浴板下方,能够载置基板的支承部。
搜索关键词: 相生 装置 方法
【主权项】:
一种气相生长装置,其特征在于,具备:反应室;淋浴板,被配置在上述反应室的上部,具有:提供第1工作气体的第1气体供给通道;与上述第1气体供给通道连接的一对第1歧管;配置在比上述一对第1歧管靠下方的第1水平面内、互相平行地延伸的多个第1横向气体流路;在上述第1横向气体流路的两端部连接上述一对第1歧管和上述第1横向气体流路、沿纵向延伸的第1连接流路;与上述第1横向气体流路连接、沿纵向延伸、在上述反应室一侧具有第1气体喷出孔的多个第1纵向气体流路;提供与上述第1工作气体不同的第2工作气体的第2气体供给通道;与上述第2气体供给通道连接的一对第2歧管;配置在比上述一对第2歧管靠下方并且比上述第1水平面靠上方的第2水平面内、沿与上述第1横向气体流路相同的方向而互相平行延伸的多个第2横向气体流路;在上述第2横向气体流路的两端部连接上述一对第2歧管和上述第2横向气体流路、沿纵向延伸的第2连接流路;以及与上述第2横向气体流路连接、经过上述第1横向气体流路之间沿纵向延伸、在上述反应室一侧具有第2气体喷出孔的多个第2纵向气体流路;该淋浴板给上述反应室内提供气体;以及,支承部,被设置在上述反应室内的上述淋浴板下方,能够载置基板。
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