[发明专利]在共同衬底上具有不同功函数的非平面I/O半导体器件和逻辑半导体器件有效

专利信息
申请号: 201380079015.5 申请日: 2013-09-27
公开(公告)号: CN105593992B 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: R·W·奥拉-沃;W·M·哈菲兹;C-H·简;P-C·刘 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/00 分类号: H01L27/00
代理公司: 72002 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王英;陈松涛
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 说明了在共同衬底上具有不同功函数的非平面I/O和逻辑半导体器件及制造在共同衬底上具有不同功函数的非平面I/O和逻辑半导体器件的方法。例如,一种半导体结构包括布置在衬底上的第一半导体器件。第一半导体器件具有导电类型,并包括具有第一功函数的栅极电极。半导体结构还包括布置在衬底上的第二半导体器件。第二半导体器件具有所述导电类型,并包括具有不同的第二功函数的栅极电极。
搜索关键词: 共同 衬底 具有 不同 函数 平面 逻辑 半导体器件
【主权项】:
1.一种片上系统(SoC)集成电路,包括:/nN型I/O晶体管,所述N型I/O晶体管布置在衬底上方,所述N型I/O晶体管包括具有第一功函数层和第一栅极长度的栅极电极;以及/nN型逻辑晶体管,所述N型逻辑晶体管布置在所述衬底上方,所述N型逻辑晶体管包括具有第二功函数层和小于所述第一栅极长度的第二栅极长度的栅极电极,所述第二功函数层具有的功函数低于所述第一功函数层的功函数,其中,在所述N型I/O晶体管中不包括所述第二功函数层并且在所述N型逻辑晶体管中不包括所述第一功函数层。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380079015.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top