[发明专利]蚀刻液、补给液及铜配线的形成方法有效
| 申请号： | 201380071577.5 | 申请日： | 2013-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN104955985B | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 片山大辅;逢坂育代 | 申请（专利权）人： | MEC股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;H05K3/06 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张福根;冯志云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种不会损及铜配线的直线性且可抑制侧边蚀刻的蚀刻液、其补给液、以及铜配线的形成方法。本发明的蚀刻液为铜的蚀刻液，所述蚀刻液为含有脂肪族杂环化合物、酸与氧化性金属离子的水溶液，所述脂肪族杂环化合物含有仅具有氮作为构成环的杂原子的5～7元环脂肪族杂环，所述脂肪族杂环化合物为由具有2个以上的氮作为构成环的杂原子的脂肪族杂环化合物A、以及以具有氨基的取代基所取代的脂肪族杂环化合物B所选择的一种以上。本发明的铜配线(1)的形成方法为对铜层未被覆抗蚀剂(2)的部分进行蚀刻，其中使用所述本发明的蚀刻液进行蚀刻。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻液 脂肪族杂环化合物 铜配线 蚀刻 补给液 杂原子 氧化性金属离子 氨基 抗蚀剂 脂肪族 直线性 侧边 铜层 杂环 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液，为形成铜配线的铜的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液为含有脂肪族杂环化合物、酸与氧化性金属离子的水溶液，所述脂肪族杂环化合物含有仅具有氮作为构成环的杂原子的5～7元环脂肪族杂环；所述脂肪族杂环化合物为由具有2个以上的氮作为构成环的杂原子的脂肪族杂环化合物A、以及以具有氨基的取代基所取代的脂肪族杂环化合物B所选择的一种以上；所述酸为盐酸，盐酸浓度为5～180g/L。
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