[发明专利]树脂组合物及由该组合物制成的接着薄膜及覆盖薄膜有效

专利信息
申请号: 201380040490.1 申请日: 2013-07-23
公开(公告)号: CN104508040B 公开(公告)日: 2016-10-26
发明(设计)人: 高桥聪子;寺木慎;吉田真树 申请(专利权)人: 纳美仕有限公司
主分类号: C08L63/10 分类号: C08L63/10;C08K5/5313;C08L53/02;C08L71/00;C09J11/06;C09J171/00;C09J201/00
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘秀青
地址: 日本新潟县新*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的是提供可达成在频率1~10GHz的区域的低介电率化及低介电损失化,且基于UL94的难燃性可满足V‑0或VTM‑0的电气/电子用途的接着薄膜及覆盖薄膜,以及制作这些接着薄膜和覆盖薄膜所用的树脂组合物。本发明提供一种树脂组合物,其特征为含有(A)以下述通式(1)表示的质量平均分子量(Mw)为500~4000的乙烯基化合物、(B)热可塑性弹性体、(C)以前述通式(1)表示的乙烯基化合物以外的热硬化性树脂、(D)硬化剂及(E)有机次膦酸铝,且相对于前述成分(A)、前述成分(B)、前述成分(C)、前述成分(D)及前述成分(E)的合计100质量份,含有前述成分(E)10~50质量份。
搜索关键词: 树脂 组合 制成 接着 薄膜 覆盖
【主权项】:
一种树脂组合物,其含有以下成分:(A)以下述通式(1)表示的质量平均分子量(Mw)为500~4000的乙烯基化合物,式中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7可以相同或不同,为氢原子、卤原子、烷基、卤化烷基或苯基;‑(O‑X‑O)‑以下述结构式(2)表示,R8、R9、R10、R14、R15可以相同或不同,为卤原子或碳数6以下的烷基或苯基,R11、R12、R13可以相同或不同,为氢原子、卤原子或碳数6以下的烷基或苯基,‑(Y‑O)‑为以下述结构式(3)定义的1种结构或以下述结构式(3)定义的2种以上的结构任意排列,R16、R17可以相同或不同,为卤原子或碳数6以下的烷基或苯基,R18、R19可以相同或不同,为氢原子、卤原子或碳数6以下的烷基或苯基,Z为碳数1以上的有机基,也可含有氧原子、氮原子、硫原子、卤原子,a、b的至少任一者不为0,表示0~300的整数,c、d表示0或1的整数;(B)热可塑性弹性体,(C)以前述通式(1)表示的乙烯基化合物以外的热硬化性树脂,(D)硬化剂,及(E)有机次膦酸铝,且相对于前述成分(A)、前述成分(B)、前述成分(C)、前述成分(D)及前述成分(E)的合计100质量份,含有前述成分(E)10~50质量份。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳美仕有限公司,未经纳美仕有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380040490.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top