[发明专利]用于抛光钼的组合物和方法在审
| 申请号： | 201380030768.7 | 申请日： | 2013-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN104395425A | 公开（公告）日： | 2015-03-04 |
| 发明（设计）人： | P.辛格;L.琼斯 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供用于抛光含钼金属的表面的组合物和方法。本文中描述的抛光组合物(浆料)包含悬浮于包含水溶性表面活性物质和氧化剂的酸性含水介质中的无机粒状研磨剂材料(例如，氧化铝或二氧化硅)的研磨剂浓缩物。所述表面活性物质是基于所述粒状研磨剂的ζ电位选择的，使得当所述研磨剂具有正的ζ电位时，所述表面活性物质包括阳离子型物质，和当所述粒状研磨剂具有负的ζ电位时，所述表面活性物质包括阴离子型物质、非离子型物质、或其组合。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
用于抛光含钼基材的含水化学‑机械抛光(CMP)组合物，所述组合物包含具有在3‑6范围内的pH的含水载体且在使用点处包含：(a)选自二氧化硅研磨剂和氧化铝研磨剂的粒状研磨剂；(b)水溶性表面活性物质；和(c)氧化剂；其中所述表面活性物质是基于所述粒状研磨剂的ζ电位选择的，使得当所述研磨剂具有正的ζ电位时，所述表面活性物质包括阳离子型物质，和当所述粒状研磨剂具有负的ζ电位时，所述表面活性物质包括阴离子型物质、非离子型物质、或其组合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉柏微电子材料股份公司，未经嘉柏微电子材料股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380030768.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
