[发明专利]用于再生镀覆组合物的方法及再生装置有效

专利信息
申请号: 201380029114.2 申请日: 2013-05-30
公开(公告)号: CN104334769A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: A·基利安;C·内特利希;D·梅茨格;S·屈内 申请(专利权)人: 埃托特克德国有限公司
主分类号: C23C18/16 分类号: C23C18/16;C23C18/52
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 过晓东
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 为达到快速无电镀覆同时确保用于达成此目的的镀覆组合物为稳定抗分解,提供用于再生所述镀覆组合物的方法。所述镀覆组合物适于在基材10上沉积至少一种第一金属,且所述镀覆组合物容纳于至少一个镀覆设备100中,所述镀覆组合物含有离子态的所述至少一种第一金属及离子态的所述至少一种第二金属。所述至少一种第二金属可以较高和较低的氧化态提供,当以较低氧化态提供时,其能够还原离子态的所述至少一种第一金属为金属态。所述方法包含下列方法步骤:(a)提供再生设备200,其具有工作电极205及反电极206,所述工作电极205设置在工作电极室202中,所述反电极206设置在反电极室203中,所述工作电极室202及所述反电极室203通过离子选择性膜204彼此分开,其中所述反电极室(203)容纳反电极液体;(b)自所述至少一个镀覆设备100移除至少部分的所述镀覆组合物;(c)使所述移除的镀覆组合物的至少一分量与所述再生设备200的所述工作电极205接触,并阴极极化所述工作电极205,使得以较高氧化态提供的所述至少一种第二金属还原为较低氧化态,所述至少一种第一金属以金属态沉积于工作电极205上,从而产生所述移除的组合物的第一部分;然后(d)自所述移除的组合物移除所述第一部分,然后将所述移除的组合物的剩余部分与所述工作电极205接触,所述工作电极205具有在方法步骤(c)中已以金属态沉积于其上的所述至少一种第一金属,并阳极极化所述工作电极205,使得以金属态沉积于所述工作电极205上的所述至少一种第一金属溶解入所述移除的组合物的剩余部分中,以形成离子形式的所述至少一种第一金属,从而产生所述移除的组合物的第二部分;然后(e)返回所述第一及第二部分至所述至少一个镀覆设备100,以得到含有离子形式的所述至少一种第一金属和以较低氧化态提供的所述至少一种第二金属的所述镀覆组合物,使得所述镀覆组合物能够将离子形式的所述至少一种第一金属还原为金属态。
搜索关键词: 用于 再生 镀覆 组合 方法 装置
【主权项】:
再生镀覆组合物的方法,所述镀覆组合物适于在基材(10)上沉积至少一种第一金属,且所述镀覆组合物容纳于至少一个镀覆设备(100)中,所述镀覆组合物含有离子态的所述至少一种第一金属及离子态的至少一种第二金属,其中所述至少一种第二金属可以较高和较低的氧化态提供,当以较低氧化态提供时,其能够将离子态的所述至少一种第一金属还原为金属态,所述方法包含:(a)提供再生设备(200),其具有工作电极(205)及反电极(206),所述工作电极(205)设置在工作电极室(202)中,所述反电极(206)设置在反电极室(203)中,所述工作电极室(202)及所述反电极室(203)通过离子选择性膜(204)彼此分开,其中所述反电极室(203)容纳反电极液体;(b)自所述至少一个镀覆设备(100)移除至少部分的所述镀覆组合物;(c)使所述移除的镀覆组合物的至少一分量与所述再生设备(200)的所述工作电极(205)接触,并阴极极化所述工作电极(205),使得以较高氧化态提供的所述至少一种第二金属被还原为较低氧化态,所述至少一种第一金属以金属态沉积于工作电极(205)上,从而产生所述移除的组合物的第一部分;然后(d)自所述移除的组合物移除所述第一部分,然后将所述移除的组合物的剩余部分与所述工作电极(205)接触,所述工作电极(205)具有在方法步骤(c)中已以金属态沉积于其上的所述至少一种第一金属,并阳极极化所述工作电极(205),使得以金属态沉积于所述工作电极(205)上的所述至少一种第一金属溶解入所述移除的组合物的剩余部分中,以形成离子形式的所述至少一种第一金属,从而产生所述移除的组合物的第二部分;然后(e)返回所述第一及第二部分至所述至少一个镀覆设备(100),以得到含有离子形式的所述至少一种第一金属和以较低氧化态提供的所述至少一种第二金属的所述镀覆组合物,使得所述镀覆组合物能够将离子形式的所述至少一种第一金属还原为金属态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃托特克德国有限公司,未经埃托特克德国有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380029114.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top