[发明专利]用于再生镀覆组合物的方法及再生装置

权利要求书

1.再生镀覆组合物的方法，所述镀覆组合物适于在基材(10)上沉积至少一种第一金属，且所述镀覆组合物容纳于至少一个镀覆设备(100)中，所述镀覆组合物含有离子态的所述至少一种第一金属及离子态的至少一种第二金属，其中所述至少一种第二金属可以较高和较低的氧化态提供，当以较低氧化态提供时，其能够将离子态的所述至少一种第一金属还原为金属态，所述方法包含：

(a)提供再生设备(200)，其具有工作电极(205)及反电极(206)，所述工作电极(205)设置在工作电极室(202)中，所述反电极(206)设置在反电极室(203)中，所述工作电极室(202)及所述反电极室(203)通过离子选择性膜(204)彼此分开，其中所述反电极室(203)容纳反电极液体；

(b)自所述至少一个镀覆设备(100)移除至少部分的所述镀覆组合物；

(c)使所述移除的镀覆组合物的至少一分量与所述再生设备(200)的所述工作电极(205)接触，并阴极极化所述工作电极(205)，使得以较高氧化态提供的所述至少一种第二金属被还原为较低氧化态，所述至少一种第一金属以金属态沉积于工作电极(205)上，从而产生所述移除的组合物的第一部分；然后

(d)自所述移除的组合物移除所述第一部分，然后将所述移除的组合物的剩余部分与所述工作电极(205)接触，所述工作电极(205)具有在方法步骤(c)中已以金属态沉积于其上的所述至少一种第一金属，并阳极极化所述工作电极(205)，使得以金属态沉积于所述工作电极(205)上的所述至少一种第一金属溶解入所述移除的组合物的剩余部分中，以形成离子形式的所述至少一种第一金属，从而产生所述移除的组合物的第二部分；然后

(e)返回所述第一及第二部分至所述至少一个镀覆设备(100)，以得到含有离子形式的所述至少一种第一金属和以较低氧化态提供的所述至少一种第二金属的所述镀覆组合物，使得所述镀覆组合物能够将离子形式的所述至少一种第一金属还原为金属态。

2.根据权利要求1的方法，其中所述至少一种第一金属为锡。

3.根据前述权利要求之一的方法，其中所述至少一种第二金属为钛。

4.根据前述权利要求之一的方法，其中所述离子态的至少一种第一金属为二价锡，且其中所述较低氧化态的至少一种第二金属为三价钛。

5.根据前述权利要求之一的方法，其中所述镀覆组合物含有焦磷酸盐离子。

6.根据前述权利要求之一的方法，其中所述镀覆组合物的pH为约6至约9。

7.根据前述权利要求之一的方法，其中当所述镀覆组合物由所述至少一个镀覆设备(100)移除、传送至所述工作电极(205)接触并与其接触时，维持所述镀覆组合物的pH。