[发明专利]包括改进的磷属元素化物半导体膜的光伏器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201380007599.5 申请日: 2013-01-30
公开(公告)号: CN104396021B 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: G·M·金伯尔;H·A·阿特瓦特;N·S·刘易斯;J·P·伯斯科;R·克里斯廷-利格曼菲斯特 申请(专利权)人: 陶氏环球技术有限责任公司;加利福尼亚技术学院
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/075;H01L31/18;H01L31/20;H01L21/02;H01L31/0224
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 吴亦华
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明利用一种处理,其包括在磷属元素化物半导体膜的表面上形成富含磷属元素区域的蚀刻处理。在许多实践方式中所述区域很薄,在很多实施方式中经常只有大约2至3nm厚。以前的研究者把所述区域留在原位而没有认识到它存在的事实和/或它的存在(如果已知)可损害所生成的器件的电子性能。本发明认识到,形成和除去所述区域有利地使所述磷属元素化物膜表面高度光滑并且电子缺陷减少。所述表面充分制备以供进一步器件制造。
搜索关键词: 包括 改进 元素 半导体 器件 制造 方法
【主权项】:
制造光伏器件的方法,所述方法包括以下步骤:a.提供包含至少一种磷属元素化物半导体的磷属元素化物半导体膜,所述磷属元素化物半导体包含锌和磷,所述膜具有表面;b.处理所述膜,所述处理包括以下步骤:i.将所述膜与第一蚀刻组合物以在所述膜的表面上有效形成富含磷的区域的方式接触;和ii.在氧化剂存在下,使用第二蚀刻组合物除去至少一部分所述富含磷的区域,所述第二蚀刻组合物相对于所述磷属元素化物半导体膜选择性地蚀刻所述富含磷的区域或其衍生物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陶氏环球技术有限责任公司;加利福尼亚技术学院,未经陶氏环球技术有限责任公司;加利福尼亚技术学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380007599.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top