[实用新型]晶片引脚电镀系统上料装置有效
申请号: | 201320629060.0 | 申请日: | 2013-10-12 |
公开(公告)号: | CN203487261U | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 姜敏 | 申请(专利权)人: | 四川蓝彩电子科技有限公司 |
主分类号: | C25D7/12 | 分类号: | C25D7/12 |
代理公司: | 成都金英专利代理事务所 51218 | 代理人: | 袁英 |
地址: | 629000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种晶片引脚电镀系统上料装置,包括推送装置和夹持翻转装置;推送装置包括载料盘(2)和推送机构,推送机构包括多排立柱(3)、顶升气缸A(4)和推送气缸(5),推送气缸(5)的活塞杆顶端固定安装在顶升气缸A(4)的缸体上;夹持翻转装置包括顶升气缸B(13)和翻转轴(14),上下夹板通过夹紧机构(12)连接顶升气缸B(13),支板(15)与底座(16)之间通过翻转轴(14)相连。本实用新型实现了上料自动化,智能化程度高,提高了生产效率;可实现循环上料,上料操作简单,速度快,效率高;夹持翻转装置可夹紧晶片盘并完成翻转,利用气缸将晶片盘顶升至输送带上;结构简单,设计合理,使用方便,制造和使用成本低。 | ||
搜索关键词: | 晶片 引脚 电镀 系统 装置 | ||
【主权项】:
晶片引脚电镀系统上料装置,其特征在于:它包括晶片盘推送装置和晶片盘夹持翻转装置;所述的晶片盘推送装置包括载料盘(2)和晶片盘推送机构,晶片盘推送机构包括多排立柱(3)、顶升气缸A(4)和推送气缸(5),多排立柱(3)通过立柱安装盘(6)固定安装在顶升气缸A(4)的活塞杆的顶端,顶升气缸A(4)的缸体底部设有滑块(7),滑块(7)设置于与其相配合的沿推送方向的滑轨A(8)上,推送气缸(5)的活塞杆顶端固定安装在顶升气缸A(4)的缸体上,推送气缸(5)的缸体固定安装在支架上;载料盘(2)上设置有与立柱(3)的运动方向相配合的推送槽(9);所述的晶片盘夹持翻转装置包括上夹板(10)、下夹板(11)、顶升气缸B(13)和翻转轴(14),上夹板(10)与下夹板(11)之间通过夹紧机构(12)连接,夹紧机构(12)固定安装在顶升气缸B(13)的活塞杆的顶端,顶升气缸B(13)的缸体通过连接件固定安装在支板(15)上,支板(15)与底座(16)之间通过翻转轴(14)相连,翻转轴(14)连接翻转驱动电机。
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