[实用新型]金属有机化学气相沉积装置有效
申请号: | 201320432957.4 | 申请日: | 2013-07-18 |
公开(公告)号: | CN203382817U | 公开(公告)日: | 2014-01-08 |
发明(设计)人: | 胡兵 | 申请(专利权)人: | 胡兵 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 美国加利福尼亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本实用新型涉及一种金属有机化学气相沉积装置,包括反应腔、设置于所述反应腔顶部的气体喷淋组件,和与所述气体喷淋组件相对设置的基座,所述反应腔的顶壁上设置有至少一个光学透窗,所述气体喷淋组件上与所述光学透窗相对设置有通孔,所述通孔的面积远大于所述气体喷淋组件的排气孔的面积,所述光学透窗的边缘设置有进气通路,用以向所述通孔内通入吹扫气体,所述吹扫气体与所述通孔相邻的所述排气孔排出的气体相同。本实用新型提供的金属有机化学气相沉积装置能在所述气体喷淋组件下方产生均匀的反应气体的气流场,使得能沉积得到性质和厚度均一的薄膜,提高了产品的良率。 | ||
搜索关键词: | 金属 有机化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种金属有机化学气相沉积装置,包括反应腔、设置于所述反应腔顶部的气体喷淋组件,和与所述气体喷淋组件相对设置的基座,所述反应腔的顶壁上设置有至少一个光学透窗,所述气体喷淋组件上与所述光学透窗相对设置有通孔,所述通孔的面积远大于所述气体喷淋组件的排气孔的面积,其特征在于,所述光学透窗的边缘设置有进气通路,用以向所述通孔内通入吹扫气体,所述吹扫气体与所述通孔相邻的所述排气孔排出的气体相同。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的