[实用新型]一种硅基BGA的圆片级芯片封装结构有效

专利信息
申请号: 201320401404.2 申请日: 2013-07-08
公开(公告)号: CN203367360U 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 陈海杰;徐虹;陈栋;张黎;陈锦辉;赖志明 申请(专利权)人: 江阴长电先进封装有限公司
主分类号: H01L33/54 分类号: H01L33/54;H01L33/62
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 彭英
地址: 214429 江苏省无锡市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种硅基BGA的圆片级芯片封装结构,属于半导体芯片封装技术领域。其包括若干个IC芯片(100)、圆片(200)和若干个焊球凸点(300),所述IC芯片(100)的芯片本体(110)设有芯片电极(111),所述圆片(200)的硅基本体(210)的表面覆盖绝缘层(220),所述绝缘层(220)的表面设置再布线金属走线层(230),所述再布线金属走线层(230)的表面设置介电层(240),所述焊球凸点(300)呈球栅阵列分布,所述IC芯片(100)通过再布线金属走线层(230)内的金属走线设计与焊球凸点(300)实现电信号连接。本实用新型提供了一种引脚间距小、引脚个数多、封装尺寸小、多芯片封装、封装成本低的硅基BGA的圆片级芯片封装结构。
搜索关键词: 一种 bga 圆片级 芯片 封装 结构
【主权项】:
一种硅基BGA的圆片级芯片封装结构,其包括若干个IC芯片(100)、圆片(200)和若干个焊球凸点(300),所述IC芯片(100)的芯片本体(110)设有芯片电极(111),所述圆片(200)的硅基本体(210)的表面覆盖绝缘层(220),所述绝缘层(220)的表面设置再布线金属走线层(230),所述再布线金属走线层(230)的表面设置介电层(240), 其特征在于:所述介电层(240)上形成介电层开口,所述介电层开口包括介电层开口Ⅰ(241)和分布于介电层开口Ⅰ(241)周围的若干个介电层开口Ⅱ(242),所述介电层开口Ⅰ(241)内所述IC芯片(100)通过金属微结构(120)倒装于再布线金属走线层(230)的表面,所述金属微结构(120)包括金属柱(121)和设置在金属柱(121)顶部的金属微凸点(122),所述IC芯片(100)与再布线金属走线层(230)、介电层(240)之间的空间设置填充料(400),所述介电层开口Ⅱ(242)呈球栅阵列分布,所述焊球凸点(300)分布于介电层开口Ⅱ(242)内,并与再布线金属走线层(230)的表面连接,所述焊球凸点(300)呈球栅阵列分布,所述IC芯片(100)通过再布线金属走线层(230)内的金属走线设计与焊球凸点(300)实现电信号连接。
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