[实用新型]一种中高压IGBT终端有效
申请号: | 201320121922.9 | 申请日: | 2013-03-18 |
公开(公告)号: | CN203134805U | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 田晓丽;朱阳军;卢烁今;吴振兴 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所;上海联星电子有限公司;江苏中科君芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/40;H01L29/06 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种中高压IGBT终端,属于大功率半导体器件技术领域。该终端包括主结、场限环、截止保护环、场板和沟槽;主结、场限环、截止保护环均在N-漂移区内,从主结向截止保护环的方向,依次有场限环和沟槽,在主结、场限环和/或截止保护环上有多个不连续的场板,沟槽截断沟槽所在处的IGBT终端的耗尽层。本实用新型结合了传统场限环终端和截断型终端的优点,一方面使耗尽层在远离主结方向延伸,提高了器件的耐压;另一方面使耗尽层向表面靠近,减小了耗尽层纵向的深度,这就为截断型终端提供了方便,它减小了刻蚀沟槽的深度,在工艺上大大降低了难度。 | ||
搜索关键词: | 一种 高压 igbt 终端 | ||
【主权项】:
一种中高压IGBT终端,其特征在于,包括主结、场限环、截止保护环、场板和沟槽;其中,所述主结、所述场限环和所述截止保护环均在N‑漂移区内,从所述主结向所述截止保护环的方向,依次有所述场限环和所述沟槽,在所述主结、所述场限环和/或所述截止保护环上有多个不连续的所述场板,所述沟槽截断所述沟槽所在处的耗尽层,所述耗尽层在所述IGBT终端上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所;上海联星电子有限公司;江苏中科君芯科技有限公司,未经中国科学院微电子研究所;上海联星电子有限公司;江苏中科君芯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320121922.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电开关装置
- 下一篇:带有定量加料装置的处理设备
- 同类专利
- 专利分类