[发明专利]掩膜板及其制作方法有效
| 申请号： | 201310745048.0 | 申请日： | 2013-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN103713466A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 陈俊生 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 赵丹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种掩膜板及其制作方法，属于有机电致发光器件制造领域，以提高蒸镀过程中形成的图形质量。所述掩模板，包括图案区域以及所述图案区域外围的辅助区域，并且所述辅助区域中的至少一部分区域的厚度大于所述图案区域的厚度。本发明可用于有机电致发光器件的制造中。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种掩模板，其特征在于，包括图案区域以及所述图案区域外围的辅助区域，并且所述辅助区域中的至少一部分区域的厚度大于所述图案区域的厚度。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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