[发明专利]掩膜版、滤光板及其制造方法、IPS/FFS液晶显示装置在审

专利信息
申请号: 201310713997.0 申请日: 2013-12-20
公开(公告)号: CN104730753A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 郁侃;陈颖明;范刚洪;张莉 申请(专利权)人: 上海仪电显示材料有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G03F7/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张亚利;骆苏华
地址: 201108 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种掩膜版、滤光板及其制造方法、IPS/FFS液晶显示装置,该掩膜版包括:基板;位于基板上的挡光层,挡光层设有:第一图案区域、被第一图案区域包围的第二及第三图案区域;第一图案区域用于形成平坦层、并具有多个第一开口,第一开口内填充有半透膜;第二、第三图案区域分别用于形成主间隔柱、副间隔柱。利用该掩膜版对光阻层进行曝光时,能够形成三种曝光强度,因而可以在同一道制程中形成滤光板上的具有段差的主间隔柱、副间隔柱及平坦层,减少了消耗的原材料及能源,缩短开发和生产周期;另外,由于在同一道制程中形成的平坦层、主间隔柱和副间隔柱为一体结构,不会出现间隔柱剥离的问题。
搜索关键词: 掩膜版 滤光 及其 制造 方法 ips ffs 液晶 显示装置
【主权项】:
一种用于形成滤光板的掩膜版,其特征在于,包括:基板;位于所述基板上的挡光层,所述挡光层设有:第一图案区域、被第一图案区域包围的第二图案区域及第三图案区域;所述第一图案区域用于形成平坦层、并具有多个第一开口,所述第一开口内填充有半透膜;所述第二图案区域用于形成主间隔柱;所述第三图案区域用于形成副间隔柱。
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