[发明专利]掩膜版、滤光板及其制造方法、IPS/FFS液晶显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示装置领域，特别是涉及一种掩膜版、一种滤光板及其制造方法，以及一种包含该滤光板的IPS/FFS液晶显示装置。

背景技术

图1是现有一种IPS（In-Plane Switching，简称IPS）液晶显示装置中滤光板的剖面结构示意图，如图1所示，滤光板包括：透明玻璃基板1、位于基板1上的遮光图案层（BM层）2、位于遮光图案层2和基板1上的滤光层（RGB层）3、位于滤光层3上的平坦层（Over coating，简称OC层）4和位于平坦层4上的具有段差的主间隔柱5和副间隔柱6。滤光层3覆盖在遮光图案层2的开口区域内，且由于遮光图案细线化的要求，滤光层3不可避免的在遮光图案层2上产生重叠，平坦层4避免了此重叠造成的画素牛角偏高。主间隔柱5和副间隔柱6使滤光板与TFT阵列基板（未图示）之间有足够空间注入一定量的液晶，同时保持电场均匀，避免影响液晶的灰阶显示。

在制造上述滤光板时，先形成平坦层4，再形成主间隔柱5和副间隔柱6（统称间隔柱）。换言之，现有技术中是在至少两道制程中分别制作平坦层和间隔柱，不仅消耗了较多原材料及能源，增加了开发和生产周期；另外，还有可能会出现平坦层与间隔柱之间的结合力较小导致间隔柱剥离的问题。

发明内容

本发明要解决的问题是：制造滤光板时要在两道制程中分别制作平坦层和间隔柱。

为解决上述问题，本发明提供了一种用于形成滤光板的掩膜版，包括：

基板；

位于所述基板上的挡光层，所述挡光层设有：第一图案区域、被第一图案区域包围的第二图案区域及第三图案区域；

所述第一图案区域用于形成平坦层、并具有多个第一开口，所述第一开口内填充有半透膜；

所述第二图案区域用于形成主间隔柱；

所述第三图案区域用于形成副间隔柱。

可选的，所述第一开口为多边形或多边形环。

可选的，所述第一开口为多边形时边长为1.5μm～3.5μm，所述第一开口为多边形环时线幅为1.5μm～3.5μm，相邻两个所述第一开口之间的距离为1μm～3μm。

可选的，所述第二图案区域具有唯一的第二开口。

可选的，所述第二开口与相邻的第一开口之间的距离为0μm～3μm。

可选的，所述第三图案区域具有多个第三开口。

可选的，所述第三开口为多边形或多边形环。

可选的，所述第三开口为多边形时边长为1.5μm～3.5μm，所述第三开口为多边形环时线幅为1.5μm～3.5μm，相邻两个所述第三开口之间的距离为1μm～3μm。

可选的，所述第三图案区域具有唯一、并填充有半透膜的第三开口。

可选的，所述半透膜的透过率为15%～30%。

可选的，所述第三开口与相邻的第一开口之间的距离为0μm～3μm。

在上述掩膜版的基础上，本发明还提供了一种滤光板的制造方法，包括：

提供基底；

在所述基底上形成遮光图案层及滤光层；

在基底、遮光图案层及滤光层上形成光阻层，利用上述任一掩膜版对所述光阻层进行光刻，在所述光阻层上对应所述第一图案区域的位置形成平坦层，在所述光阻层上对应所述第二图案区域的位置形成主间隔柱，在所述光阻层上对应所述第三图案区域的位置形成副间隔柱。

在上述滤光板制造方法的基础上，本发明还提供了一种滤光板，包括：

基底；

位于所述基底上的遮光图案层及滤光层；

位于所述基底、遮光图案层及滤光层上的平坦层、主间隔柱及副间隔柱，所述主间隔柱、副间隔柱及平坦层为一体结构，且所述平坦层、主间隔柱及副间隔柱的材料均为光阻。

另外，本发明还提供了一种IPS/FFS液晶显示装置，包括：如上所述的滤光板。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

光线照射本发明的掩膜版时，透过第二图案区域、第三图案区域、第一图案区域的光线强度依次减小，因此，利用该掩膜版对光阻层进行曝光时，能够形成三种曝光强度，因而可以在同一道制程中形成滤光板上的具有段差的主间隔柱、副间隔柱及平坦层，而现有技术中是在两道制程中分别制作平坦层、主间隔柱和副间隔柱，因而可以减少消耗的原材料及能源，缩短开发和生产周期；另外，由于在同一道制程中形成的平坦层、主间隔柱和副间隔柱为一体结构，不会出现间隔柱剥离的问题。

附图说明

图1是现有一种IPS液晶显示装置中滤光板的剖面结构示意图；