[发明专利]掩膜版、滤光板及其制造方法、IPS/FFS液晶显示装置在审

专利信息
申请号: 201310713997.0 申请日: 2013-12-20
公开(公告)号: CN104730753A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 郁侃;陈颖明;范刚洪;张莉 申请(专利权)人: 上海仪电显示材料有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G03F7/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张亚利;骆苏华
地址: 201108 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 掩膜版 滤光 及其 制造 方法 ips ffs 液晶 显示装置
【权利要求书】:

1.一种用于形成滤光板的掩膜版,其特征在于,包括:

基板;

位于所述基板上的挡光层,所述挡光层设有:第一图案区域、被第一图案区域包围的第二图案区域及第三图案区域;

所述第一图案区域用于形成平坦层、并具有多个第一开口,所述第一开口内填充有半透膜;

所述第二图案区域用于形成主间隔柱;

所述第三图案区域用于形成副间隔柱。

2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一开口为多边形或多边形环。

3.根据权利要求2所述的掩膜版,其特征在于,所述第一开口为多边形时边长为1.5μm~3.5μm,所述第一开口为多边形环时线幅为1.5μm~3.5μm,相邻两个所述第一开口之间的距离为1μm~3μm。

4.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第二图案区域具有唯一的第二开口。

5.根据权利要求4所述的掩膜版,其特征在于,所述第二开口与相邻的第一开口之间的距离为0μm~3μm。

6.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第三图案区域具有多个第三开口。

7.根据权利要求6所述的掩膜版,其特征在于,所述第三开口为多边形或多边形环。

8.根据权利要求7所述的掩膜版,其特征在于,所述第三开口为多边形时边长为1.5μm~3.5μm,所述第三开口为多边形环时线幅为1.5μm~3.5μm,相邻两个所述第三开口之间的距离为1μm~3μm。

9.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第三图案区域具有唯一、并填充有半透膜的第三开口。

10.根据权利要求1或9所述的掩膜版,其特征在于,所述半透膜的透过率为15%~30%。

11.根据权利要求6或9所述的掩膜版,其特征在于,所述第三开口与相邻的第一开口之间的距离为0μm~3μm。

12.一种滤光板的制造方法,其特征在于,包括:

提供基底;

在所述基底上形成遮光图案层及滤光层;

在基底、遮光图案层及滤光层上形成光阻层,利用权利要求1至11任一项所述的掩膜版对所述光阻层进行光刻,在所述光阻层上对应所述第一图案区域的位置形成平坦层,在所述光阻层上对应所述第二图案区域的位置形成主间隔柱,在所述光阻层上对应所述第三图案区域的位置形成副间隔柱。

13.一种滤光板,其特征在于,包括:

基底;

位于所述基底上的遮光图案层及滤光层;

位于所述基底、遮光图案层及滤光层上的平坦层、主间隔柱及副间隔柱,所述主间隔柱、副间隔柱及平坦层为一体结构,且所述平坦层、主间隔柱及副间隔柱的材料均为光阻。

14.一种IPS/FFS液晶显示装置,其特征在于,包括:权利要求13所述的滤光板。

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