[发明专利]一种具有异质结结构的双极型功率半导体器件在审

专利信息
申请号: 201310637564.1 申请日: 2013-11-29
公开(公告)号: CN103887333A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 何敏;陈思哲;王珏 申请(专利权)人: 杭州恩能科技有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310013 浙江省杭州市西湖区文三*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种具有异质结结构的双极型半导体装置,本发明的半导体装置具有可控的表面纵向或横向电流导通沟道,同时,电流垂直流过整个半导体器件;本发明的半导体装置可以工作在双极型导电状态具有较大的电流导通能力;本发明的半导体装置使用异质结结构取代传统的SiC PN结势垒,使器件具有较低的开启电压。相比于传统结构,本发明的半导体装置能够显著提高器件的电流导通能力,降低导通压降,为高压大容量的半导体装置制备提供了可能。
搜索关键词: 一种 具有 异质结 结构 双极型 功率 半导体器件
【主权项】:
一种具有异质结结构的双极型功率半导体装置,其特征:栅极电极;源极电极和漏极电极; 含有基于IV族化合物半导体碳化硅(SiC)的异质结结构,并与所述栅极电极,源极电极和漏极电极形成欧姆接触。 
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