[发明专利]一种管内化学气相沉积制备薄膜的方法及装置

摘要

本发明公开了一种管内化学气相沉积制备薄膜的装置，包括反应室，所述反应室上开有供管状工件穿过的进料口和出料口，所述进料口和出料口分别布设在反应室两侧，所述反应室上且位于出料口上方设置有保护气入口，所述反应室上且位于进料口下方设置有保护气出口，所述反应室内部设置有用于对位于反应室内的管状工件进行加热的加热单元。另外，本发明还公开了利用该装置进行管内化学气相沉积制备薄膜的方法。本发明的装置结构简单，成本低，适合各类耐温性较好的管状工件实现管内镀膜，可实现多根管状工件同步镀膜，效率高，适合大规模推广应用，也可实现长管状工件的连续化学沉积。

主权项

一种管内化学气相沉积制备薄膜的装置，其特征在于，包括反应室（1），所述反应室（1）上开有供管状工件（3）穿过的进料口（1‑1）和出料口（1‑2），所述进料口（1‑1）和出料口（1‑2）分别布设在反应室（1）两侧，所述反应室（1）上且位于出料口（1‑2）上方设置有保护气入口（6），所述反应室（1）上且位于进料口（1‑1）下方设置有保护气出口（7），所述反应室（1）内部设置有用于对位于反应室（1）内的管状工件（3）进行加热的加热单元（2）。