[发明专利]半导体层叠板和垂直腔面发射激光器有效
申请号: | 201310187942.0 | 申请日: | 2013-03-13 |
公开(公告)号: | CN103311805A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 原敬 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;H01S5/343 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张祥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种半导体层叠板包括半导体分布布拉格反射镜(DBR)形成于基底上的半导体分布布拉格反射镜(DBR)、通过交替层叠宽能带半导体层和有源层形成于半导体DBR上的谐振器层。每一个有源层都包含一个多量子阱(MQW)层和形成于为在多量子阱层的每一个表面上各有一个的两个分隔层。多量子阱层通过交替层叠阻挡层和量子阱层形成。形成n层宽能带半导体层,且从基底数第m层宽能带半导体层的能隙Egm,和从基底数第m-1层宽能带半导体层的能隙Egm-1,满足Egm-1<Egm,其中n和m均为大于等于2的整数,且1<m≤n。 | ||
搜索关键词: | 半导体 层叠 垂直 发射 激光器 | ||
【主权项】:
一种半导体层叠板,包括:半导体分布布拉格反射镜(DBR),其形成在基底上;以及谐振器层,其通过交替层叠宽能带半导体层和有源层形成在半导体分布布拉格反射镜上,其中每一个有源层都包含一个多量子阱(MQW)层和两个分隔层,所述多量子阱层的每个表面上形成一个分隔层,其中所述多量子阱层通过交替层叠势垒层和量子阱层形成,其中形成n层宽能带半导体层,且从基底数第m层宽能带半导体层的能隙Egm,以及从基底数第m‑1层宽能带半导体层的能隙Egm‑1满足Egm‑1<Egm,其中n和m均为大于或等于2的整数,且1<m≤n。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310187942.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:指示灯控制装置
- 下一篇:一种立式空调送风装置