[发明专利]一种调控n型SiC单晶低维纳米材料掺杂浓度的方法有效
申请号: | 201310027870.3 | 申请日: | 2013-01-15 |
公开(公告)号: | CN103352253A | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 高凤梅;贺支青;王霖;杨为佑 | 申请(专利权)人: | 宁波工程学院 |
主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;C30B1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 315211 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种调控n型SiC单晶低维纳米材料掺杂浓度的方法,其包括以下具体步骤:(1)将C纸浸泡在一定浓度的催化剂无水乙醇溶液中,自然晾干备用;(2)将液态有机前驱体聚硅氮烷置于石墨坩埚中,然后将步骤1)引入了催化剂的C纸置于石墨坩埚顶部,在气氛烧结炉中于5%N2和95%Ar气(体积比)的混合保护气氛下热解一定时间;(3)通过控制热解温度,实现N原子在催化剂液滴中溶解度的控制,进而实现n型SiC单晶低维纳米材料N掺杂浓度的调控。本发明可以实现n型SiC单晶低维纳米材料均匀掺杂及其掺杂浓度的调控和设计,在光电纳米器件具有潜在的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 调控 sic 单晶低维 纳米 材料 掺杂 浓度 方法 | ||
【主权项】:
一种调控n型SiC单晶低维纳米材料掺杂浓度的方法,其包括以下具体步骤:1)催化剂引入:将C纸浸泡在一定浓度的催化剂无水乙醇溶液中,自然晾干备用;2)高温热解:将液态有机前驱体聚硅氮烷置于石墨坩埚中,然后将含有催化剂的C纸置于石墨坩埚顶部,置于气氛烧结炉中于5%N2和95%Ar气(体积比)的混合保护气氛下热解一定时间;3)掺杂浓度调控:通过控制热解温度,实现N原子在催化剂液滴中溶解度的控制,进而实现n型SiC单晶低维纳米材料N掺杂浓度的调控。
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