[发明专利]物品保管设备及物品保管方法有效
申请号: | 201310001337.X | 申请日: | 2013-01-04 |
公开(公告)号: | CN103199042B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | 高原正裕;上田俊人 | 申请(专利权)人: | 株式会社大福 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L21/677 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 陈国慧,杨楷 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种物品保管设备及物品保管方法,控制装置在判断为决定同时期地控制为第一供给状态的惰性气体供给部的总数超过了同时供给最大数的情况下,将决定同时期地控制为第一供给状态的惰性气体供给部中的同时供给最大数以下的惰性气体供给部控制为第一供给状态,对于剩余的惰性气体供给部执行开始延迟处理,所述开始延迟处理是使第一供给状态的开始延迟设定延迟时间的处理。 | ||
搜索关键词: | 物品 保管 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种物品保管设备,包括:多个收纳部,收纳用于容纳基板的搬运容器;搬运装置,相对于所述多个收纳部搬运所述搬运容器;惰性气体供给部,针对所述多个收纳部的每一个收纳部而设置,包括:排出惰性气体的排出口;以及能够调节从所述排出口排出的所述惰性气体的流量的流量调节装置,该惰性气体供给部用于将所述惰性气体供给至收纳于所述收纳部的所述搬运容器的内部;以及控制装置,控制所述搬运装置和所述流量调节装置的动作,其特征在于,所述物品保管设备具有供给源,该供给源对与所述多个收纳部中的一组收纳部对应的一组所述惰性气体供给部供给所述惰性气体,所述物品保管设备设定了从所述供给源对所述一组惰性气体供给部能够供给的最大容许流量,所述控制装置构成为,能够将所述一组惰性气体供给部各自的控制状态在第一供给状态和第二供给状态之间切换,所述第一供给状态是使所述流量调节装置动作以便对收纳于所述收纳部的所述搬运容器以第一目标流量供给所述惰性气体的状态,所述第二供给状态是使所述流量调节装置动作以便对收纳于所述收纳部的所述搬运容器以比所述第一目标流量小的第二目标流量供给所述惰性气体的状态,根据所述最大容许流量、所述第一目标流量以及所述第二目标流量确定的能够同时期地控制为所述第一供给状态的所述惰性气体供给部的最大数为同时供给最大数,所述控制装置构成为,在判断为对象总数超过了所述同时供给最大数的情况下,将决定同时期地控制为所述第一供给状态的所述惰性气体供给部中的所述同时供给最大数以下的所述惰性气体供给部控制为所述第一供给状态,对于剩余的所述惰性气体供给部执行开始延迟处理,所述开始延迟处理是使所述第一供给状态的开始延迟设定延迟时间的处理,其中,所述对象总数为决定同时期地控制为所述第一供给状态的所述惰性气体供给部的总数。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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