[实用新型]太阳能电池板式PECVD设备用基片有效
申请号: | 201220295032.5 | 申请日: | 2012-06-21 |
公开(公告)号: | CN202643840U | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 苏伟;孙晓亮;郭忠瑞;刘长虹 | 申请(专利权)人: | 河南义鑫威新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L31/18 |
代理公司: | 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 | 代理人: | 陈大通;刘爱芳 |
地址: | 451200 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型涉及太阳能电池生产设备技术领域,特别是涉及一种太阳能电池板式PECVD设备用基片,所述基片为长方体薄板,基片横向一侧边部沿纵向设有一列上部为矩形下部为半圆形的组合凹槽,基片横向的另一侧靠近边部沿纵向与组合凹槽相对应设有一列通孔,所述组合凹槽的宽度为a1,通孔的直径为a2,则a1=a2,基片纵向的一侧中部沿横向依次设有矩形凹槽、等腰梯形凹槽、等腰三角形凹槽和直角梯形凹槽,所述矩形凹槽的深度为h1,等腰梯形凹槽的深度为h2,等腰三角形凹槽的深度为h3,直角梯形凹槽的深度为h4,则h1>h2=h4>h3;所述基片采用不锈钢316制成。本实用新型由于形状规则,有一定规律性,所以有助于镀膜的均匀性,进而有利于提高电池片的光电转换效率,非常适于推广实施。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 板式 pecvd 备用 | ||
【主权项】:
一种太阳能电池板式PECVD设备用基片,其特征是:所述基片为长方体薄板,基片横向一侧边部沿纵向设有一列上部为矩形下部为半圆形的组合凹槽,基片横向的另一侧靠近边部沿纵向与组合凹槽相对应设有一列通孔,所述组合凹槽的宽度为a1,通孔的直径为a2,则a1=a2,基片纵向的一侧中部沿横向依次设有矩形凹槽、等腰梯形凹槽、等腰三角形凹槽和直角梯形凹槽,所述矩形凹槽的深度为h1,等腰梯形凹槽的深度为h2,等腰三角形凹槽的深度为h3,直角梯形凹槽的深度为h4,则h1>h2=h4>h3。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的