[实用新型]太阳能电池板式PECVD设备用基片有效
申请号: | 201220295032.5 | 申请日: | 2012-06-21 |
公开(公告)号: | CN202643840U | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 苏伟;孙晓亮;郭忠瑞;刘长虹 | 申请(专利权)人: | 河南义鑫威新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L31/18 |
代理公司: | 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 | 代理人: | 陈大通;刘爱芳 |
地址: | 451200 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能电池 板式 pecvd 备用 | ||
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池生产设备技术领域,特别是涉及一种太阳能电池板式PECVD设备用基片。
背景技术
众所周知,在多晶硅太阳能电池表面采用PEVCD法镀上一层氮化硅减反射膜,能够减少太阳光的反射,增加电池对光线的吸收。减反射膜提高了对太阳光的利用率,有助于提高光生电流密度,起到提高电流进而提高转化效率的作用。PEVCD(等离子体增强化学气相沉积)是利用等离子体的特性来控制或影响气相反应和材料表面的化学反应过程,并在适当的温度(从室温到500℃)下沉积薄膜。而现有太阳能电池板式PECVD设备用基片由于形状复杂不规则,不具有一定规律性,制造加工难度也增大,互换性也差,进而导致该设备在镀膜的过程中镀膜均匀性差,影响电池片的光电转换效率。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题就是克服上述现有技术的不足,而提供一种
形状规则,有规律性,外观美观,便于制造加工,降低生产成本,互换性强,同时能够提高镀膜均匀性,提高电池片光电转换效率的太阳能电池板式PECVD设备用基片。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:
一种太阳能电池板式PECVD设备用基片,所述基片为长方体薄板,基片横向一侧边部沿纵向设有一列上部为矩形下部为半圆形的组合凹槽,基片横向的另一侧靠近边部沿纵向与组合凹槽相对应设有一列通孔,所述组合凹槽的宽度为a1,通孔的直径为a2,则a1=a2,基片纵向的一侧中部沿横向依次设有矩形凹槽、等腰梯形凹槽、等腰三角形凹槽和直角梯形凹槽,所述矩形凹槽的深度为h1,等腰梯形凹槽的深度为h2,等腰三角形凹槽的深度为h3,直角梯形凹槽的深度为h4,则h1>h2=h4>h3。
所述基片采用不锈钢316制成。
本实用新型技术方案的有益效果是:
1、在结构上,本实用新型太阳能电池板式PECVD设备用基片为长方体薄板,基片横向一侧边部设有一列组合凹槽,另一侧靠近边部相应设有一列通孔,所述组合凹槽的宽度为a1,通孔的直径为a2,则a1=a2,基片纵向的一侧中部依次设有矩形凹槽、等腰梯形凹槽、等腰三角形凹槽和直角梯形凹槽,所述矩形凹槽的深度为h1,等腰梯形凹槽的深度为h2,等腰三角形凹槽的深度为h3,直角梯形凹槽的深度为h4,则h1>h2=h4>h3,整体和局部形状均规则,有规律性,外观美观,容易加工制造,降低生产成本,而且互换性强。
2、本实用新型由于形状规则,有一定规律性,所以有助于镀膜的均匀性,进而有利于提高电池片的光电转换效率,非常适于推广实施。
附图及说明
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明,其中:
图1为现有技术太阳能电池板式PECVD设备用基片的结构示意图;
图2为本实用新型太阳能电池板式PECVD设备用基片的结构示意图;
图中序号:1、组合凹槽,2、通孔, 3、矩形凹槽,4、等腰梯形凹槽,5、等腰三角形凹槽,6、直角梯形凹槽。
具体实施方式
实施例:
参见图1至图6,图中,本实用新型太阳能电池板式PECVD设备用基片,所述基片为长方体薄板,基片横向一侧边部沿纵向设有一列上部为矩形下部为半圆形的组合凹槽1,基片横向的另一侧靠近边部沿纵向与组合凹槽1相对应设有一列通孔2,所述组合凹槽1的宽度为a1,通孔2的直径为a2,则a1=a2,基片纵向的一侧中部沿横向依次设有矩形凹槽3、等腰梯形凹槽4、等腰三角形凹槽5和直角梯形凹槽6,所述矩形凹槽3的深度为h1,等腰梯形凹槽4的深度为h2,等腰三角形凹槽5的深度为h3,直角梯形凹槽6的深度为h4,则h1>h2=h4>h3;所述基片采用不锈钢316制成。
以上所述仅为本实用新型示意性的具体实施方式,并非用以限定本实用新型的范围,任何本领域的技术人员在不脱离本实用新型构思和原则的前提下所做出的等同变化与修改,均应属于本实用新型保护的范围。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的