[实用新型]喷嘴与具有该喷嘴的炉管有效
申请号: | 201220093331.0 | 申请日: | 2012-03-13 |
公开(公告)号: | CN202465865U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 谢玲艳 | 申请(专利权)人: | 余姚市士森铜材厂 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 安徽汇朴律师事务所 34116 | 代理人: | 胡敏 |
地址: | 315400 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种具有固定装置且能避免喷嘴偏转与炉管管壁接触的喷嘴,其包括相连接的一个第一管构件及一个第二管构件,该第一管构件的一个表面设有一固定装置,该固定装置为一粗糙表面。本实用新型还提供了一种具有上述喷嘴的炉管,其包括:一内筒;一设置在该内筒外侧的外筒;一设于该内筒以及该外筒下方的筒体,该筒体、该内筒与该外筒共同定义一反应室;一喷嘴,该喷嘴具有相连接的一个第一管构件及一个第二管构件,该第一管构件的一个表面设有一固定装置,该固定装置为一粗糙表面;以及一用于将该喷嘴固定于该筒体高真空接头,该高真空接头包含至少一环型密封垫,且该环型密封垫环绕并直接接触该喷嘴的固定装置。 | ||
搜索关键词: | 喷嘴 具有 炉管 | ||
【主权项】:
一种喷嘴,其包括相连接的一个第一管构件及一个第二管构件,该第一管构件的一个表面设有一固定装置,其特征在于:该固定装置为一粗糙表面。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的