[实用新型]喷嘴与具有该喷嘴的炉管有效
申请号: | 201220093331.0 | 申请日: | 2012-03-13 |
公开(公告)号: | CN202465865U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 谢玲艳 | 申请(专利权)人: | 余姚市士森铜材厂 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 安徽汇朴律师事务所 34116 | 代理人: | 胡敏 |
地址: | 315400 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴 具有 炉管 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种喷嘴结构,特别是一种表面具有固定装置的喷嘴。
背景技术
喷嘴结构已经广泛的应用到人们生活的各个方面,例如:引擎散热的喷嘴、灭火机的喷嘴、浇花的喷嘴、洗涤的喷嘴等,这些都是通过改变液体的流速以使得所喷出的液体的流速加剧或呈雾状。
请参考图1,一种现有的直立式炉管10包含一内筒12、一外筒14、一晶舟16以及一供应气体的喷嘴18设于内筒12与晶舟16之间。内筒12与外筒14排列为同心圆的双重管构造,内筒12与外筒14间隔预定距离,且外筒14外围由设有加热器15以及隔热材17的加热炉19。此外,喷嘴18为一具光滑表面的空心管柱,喷嘴18的一端连接至一气体供应系统20,且喷嘴18通过一高真空接头22固定于炉管10下端的一筒体24的管壁上。高真空接头22包含一第一套筒221、一第二套筒222以及一第三套筒223依序抓持喷嘴18,且第一套筒221与第二套筒222间设有一环型密封垫224用以确保第一套筒221、第二套筒222与喷嘴18间的密封性。
由于CVD是利用化学反应来进行薄膜的沉积,在反应时通常会将炉管10内部的气压维持在低压或接近真空的状态,气体压力的变化使得喷嘴18会以被高真空接头22夹持的区段为轴心而偏转,造成喷嘴18位于内筒12与晶舟16之间的区段因偏转并斜倚在内管12的管壁内侧,使得歪斜的喷嘴18所喷散出的气体运行方向不再与晶舟上16上的晶圆平行,导致晶舟16上承载的晶圆表面薄膜沉积不全而被列为不良品报废。此外,在进行CVD时,生成物除了会沉积在晶舟16上,也会附着在内筒12的管壁内侧以及喷嘴18表面,当内筒12的管璧内侧表面累积一定厚度的生成物时,由于生成物与喷嘴18的热膨胀系数的差异,在受热时经常使得喷嘴18与内筒12的管壁接触的部分发生断裂而报废,即造成整体制程以及生产成本上莫大的损失。
实用新型内容
有鉴于此,有必要提供一种具有固定装置的喷嘴,其能避免喷嘴偏转与炉管管壁接触而发生断裂的问题,以克服上述不足。
本实用新型提供一种喷嘴,其包括:相连接的一个第一管构件及一个第二管构件,该第一管构件的一个表面设有一固定装置,该固定装置为一粗糙表面。
本实用新型还提供一种炉管,其包括:一内筒;一设置在该内筒外侧的外筒;一设于该内筒以及该外筒下方的筒体,该筒体、该内筒与该外筒共同定义一反应室;一喷嘴,该喷嘴具有相连接的一个第一管构件及一个第二管构件,该第一管构件的一个表面设有一固定装置,该固定装置为一粗糙表面;以及一用于将该喷嘴固定于该筒体高真空接头,该高真空接头包含至少一环型密封垫,且该环型密封垫环绕并直接接触该喷嘴的固定装置。
较佳地,该粗糙表面的粗糙度介于1毫米至3毫米之间。
较佳地,该第一管构件垂直于该第二管构件。
较佳地,该第一管构件与该第二管构件的夹角小于180度。
在本实用新型提供的技术方案中,该固定装置可为一粗糙表面以增加喷嘴与环型密封垫之间的接触面积以及磨擦阻力,避免喷嘴与环型密封垫之间发生相对的转动,并且防止喷嘴接触炉管内壁在受热环境下因热膨胀系数差异而发生断裂的问题。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述,为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本实用新型的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
以下结合附图描述本实用新型的实施例,其中:
图1为一种现有的直立式炉管的局部示意图。
图2为本实用新型提供的喷嘴的侧视图。
图3为本实用新型提供的具有图2所示喷嘴的炉管的结构示意图。
图4为图2所示喷嘴的一种变形结构的侧视图。
图5为图2所示喷嘴的另一种变形结构的侧视图。
具体实施方式
以下基于附图对本实用新型的具体实施例进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅作为实施例,并不用于限定本实用新型的保护范围。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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