[发明专利]一种硅片体内重金属的焙烤方法及检测方法在审
申请号: | 201210588075.7 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103063692A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 包胜娟;贺贤汉;杨建成;洪漪 | 申请(专利权)人: | 上海申和热磁电子有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223;G01N1/44 |
代理公司: | 上海元一成知识产权代理事务所(普通合伙) 31268 | 代理人: | 赵青 |
地址: | 200444 上海市宝*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种硅片体内重金属的焙烤方法及检测方法。将硅片置于180-300℃烘焙20-60min;烘焙后,将硅片冷却至20-25℃;采用全反射X射线荧光光谱检测硅片体内重金属。本发明的方法,将扩散到硅片内部的重金属再扩散至硅片表面,能够采用全反射X射线荧光光谱有效测量并分析硅片污染的状况。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅片 体内 重金属 方法 检测 | ||
【主权项】:
一种硅片体内重金属的检测方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:(a)将硅片置于180‑300℃烘焙20‑60min;(b)经步骤(a)烘焙后,将硅片冷却至20‑25℃;(c)采用全反射X射线荧光光谱检测硅片体内重金属。
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