[发明专利]局部载流子寿命减少有效

专利信息
申请号: 201210448360.9 申请日: 2012-11-09
公开(公告)号: CN103137618A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 亚历克斯·卡尔尼茨基;姚智文;蔡军;柳瑞兴;段孝勤 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06;H01L21/82
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种半导体结构,包括:衬底;位于衬底中的第一功率器件和第二功率器件;位于第一和第二功率器件之间的至少一个隔离部件;以及位于衬底中的邻接至少一个隔离部件的俘获部件。本发明提供了局部载流子寿命减少的结构及其形成方法。
搜索关键词: 局部 载流子 寿命 减少
【主权项】:
一种半导体结构,包括:衬底;第一功率器件和第二功率器件,都位于所述衬底中;至少一个隔离部件,位于所述第一功率器件和所述第二功率器件之间;以及俘获部件,位于所述衬底中,所述俘获部件邻接所述至少一个隔离部件。
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