[发明专利]一种划分高填充率冗余图形的方法无效
| 申请号： | 201210432405.3 | 申请日： | 2012-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN102945302A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 阚欢;张旭昇;魏芳 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;H01L27/02 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种划分高填充率冗余图形的方法，包括以下顺序步骤：首先，划出需要填充冗余图形的空白区域，确定空白区域的边线；之后，在相距空白区域边线内侧一定距离的地方划出冗余图形的边线，其中所述冗余图形各条侧边线与相对应空白区域边线之间保持数值为d的距离，最后，由各条冗余图形侧边线组成的图形即为冗余图形。本发明提供的划分高填充率冗余图形的方法能形成具有高填充率冗余图形，有助于提高版图整体的图形密度均一性，降低版图各处的图形密度梯度差，最终提高硅片在化学机械研磨及刻蚀后的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 划分 填充 冗余 图形 方法 | ||
【主权项】：
一种划分高填充率冗余图形的方法，其特征在于，包括以下顺序步骤：首先，划出需要填充冗余图形的空白区域，确定空白区域的边线；之后，在相距空白区域边线内侧一定距离的地方划出冗余图形的边线，其中所述冗余图形各条侧边线与相对应空白区域边线之间保持数值为d的距离，最后，由各条冗余图形侧边线组成的图形即为冗余图形。
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