[发明专利]一种划分高填充率冗余图形的方法无效
申请号: | 201210432405.3 | 申请日: | 2012-11-02 |
公开(公告)号: | CN102945302A | 公开(公告)日: | 2013-02-27 |
发明(设计)人: | 阚欢;张旭昇;魏芳 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50;H01L27/02 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 划分 填充 冗余 图形 方法 | ||
1.一种划分高填充率冗余图形的方法,其特征在于,包括以下顺序步骤:
首先,划出需要填充冗余图形的空白区域,确定空白区域的边线;
之后,在相距空白区域边线内侧一定距离的地方划出冗余图形的边线,其中所述冗余图形各条侧边线与相对应空白区域边线之间保持数值为d的距离,
最后,由各条冗余图形侧边线组成的图形即为冗余图形。
2.根据权利要求1所述的冗余图形,其特征在于,冗余图形中相对侧边之间定义为a,所述a的数值范围为1~20000 nm。
3.根据权利要求1所述的冗余图形,其特征在于,所述d的数值范围为1~50000nm。
4.根据权利要求1所述的冗余图形,其特征在于,所述a的数值不小于空白区域所在层中主图形设计要求的最小主图形尺寸。
5.根据权利要求1所述的冗余图形,其特征在于,所述d的数值不小于空白区域所在层中主图形设计要求的最小主图形间距。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210432405.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。